Professional Documents
Culture Documents
Pelan Mengajar TEORI Oxidation
Pelan Mengajar TEORI Oxidation
Pelan Mengajar TEORI Oxidation
62530 PUTRAJAYA
Muka : 1 Drp : 7
Muka : 2 drp. 7
ISI KANDUNGAN
01.01 CARRY OUT SEMICONDUCTOR PACKAGING EQUIPMENT CONDITION CHECK
TEMPOH : 1 JAM
Muka : 3 drp. 7
NO. KOD P T
WB PP
Muka : 4 drp. 7
AKTIVITI PENGAJARAN
( Instructional Activities )
INST. AIDS
MASA
Persediaan ( Preparation )
1. Selesakan pelajar - beri salam dan salam sejahtera. - tulis kursus, tahap dan tarikh. - tanya khabar kesihatan pelajar. 2. Semak senarai kehadiran pelajar. 3. Tekan aspek - disiplin - tatatertib - kerjasama. 4. Bawa pelajar kepada tajuk dengan mengaitkan tentang oxidation. 5. Tulis tajuk di white board THERMAL OXIDATION 6. Tulis tujuan pengajaran di white board dan nyatakan kepada para pelajar. Pelajar-pelajar mesti boleh: 1. Terangkan maksud oxidation. 2. Terangkan jenis-jenis proses oxidation. 3. Terangkan applikasi oxidation. WB PEN WB PEN 10 min
7. Terangkan tujuan/kepentingan/faedah dari pelajaran ini. - Mengetahui maksud oxidation - Mengetahui jenis-jenis oxidation
8. Siasat pengetahuan pelajar berkenaan tajuk yang akan dipelajari. - Tanya pelajar tentang pengetahuan mereka mengenai oxidation - Pernahkah mendengar maklumat mengenai oxidation
Muka : 5 drp 7
TOPIK PENGAJARAN
( Instructional Topic )
AKTIVITI PENGAJARAN
( Instructional Activities )
INST. AIDS
MASA
Penyampaian ( Presentation )
1. Terangkan maksud oxidation 1. Thermal oxidation - The formation of SiO2 on a silicon surface at high temperatures inside a furnace PP 30 min
2. Dry Oxidation - the silicon wafer reacts with the ambient oxygen, forming a layer of silicon dioxide on its surface. Wet Oxidation - hydrogen and oxygen gases are introduced into a torch chamber where they react to form water molecules, which are then made to enter the reactor where they diffuse toward the wafers. The water molecules react with the silicon to produce the oxide and another byproduct, i.e., hydrogen gas.
3. Diffusion mask Screen oxide Barrier layer Pad oxide Blanket field oxide LOCOS Gate oxide
Muka : 6 drp. 7
AKTIVITI PENGAJARAN
( Instructional Activities )
INST. AIDS
MASA
Penggunaan ( Application )
1. 2. 3. 4. Edarkan kertas penerangan. Arah pelajar semak helaian setiap muka surat kertas penerangan. Arah pelajar baca Kertas Penerangan Uji kefahaman pelajar dengan bertanyakan soalan berkaitan tajuk yang telah diajar.
10 min
S1 : Apakah yang dimaksudkan dengan proses oxidation? J1 : The formation of SiO2 on a silicon surface at high temperatures inside a furnace. S2 : Apakah yang dimaksudkan dengan dry oxidation? J2 : The silicon wafer reacts with the ambient oxygen, forming a layer of silicon dioxide on its surface. 5. Segera bantu/perbetulkan kesilapan pelajar dan akui jawapan yang diberi dan beri pujian/motivasi. 6. Ulang perkara-perkara penting dan buat ulasan.
Muka : 7 drp. 7
AKTIVITI PENGAJARAN
( Instructional Activities )
INST. AIDS
MASA
Pengesahan ( Confirmation )
1. Berikan masa kepada pelajar untuk membuat persediaan 2. 3. Edarkan kertas tugasan kepada pelajar. Beri arahan 4. 5. semak mukasurat. Tulis nama dan tarikh. Masa Menjawab adalah 5 Minit Markah lulus minima adalah 50% T 10 min
Beri ringkasan mengenai apa yang telah diajar. Minta bersedia untuk topik yang akan datang Tajuk : Photolithography
6.
Ucapkan salam.