Polimerowe

Lab-on-a-Chip

Wykład
„Funkcjonalne Materiały Polimerowe”
2006/2007
 Miniaturyzacja

Jednorazowe urządzenia
ml µl
 System modułowy

próbka
meander
mikropompy kalibracja
nośnik

korpus

detektor
optyczny

czujniki

podłoże z mikrokanalikami
System warstwowy

IDEA:
Miniaturyzacja
i
integracja
wszystkich etapów
analizy
w jednym urządzeniu
 Materiały do wytwarzania mikrostruktur

ƒ Krzem

ƒ Szkło

ƒ Polimetakrylan

ƒ Poliwęglan

ƒ Poli(dimetylosiloksan) (PDMS)
PDMS - poly(dimethylsiloxane)

9 transparent
9 stable from – 50 to + 200°C
9 chemically neutral
9 low cost
9 simple technology
9 easy binding with other
materials
 Własności PDMS

ƒ Elastomer

ƒ Możliwość odwzorowania kształtu

z dokładnością 0.1um

ƒ Dobry izolator elektryczny

ƒ Korzystne własności optyczne, n=1.43

 Własności PDMS
3,0

2,5

2,0 PDMS "nowy"

PDMS "stary"
Absorbancja

1,5

1,0

0,5

0,0

200 400 600 800 1000

Długoś c fa li [nm]
 Polimerowe elementy mikroukładów
analitycznych – technologia PDMS

prepolimer odczynnik sieciujący

polimeryzacja
forma z "negatywem"
płaska płytka PDMS mikrokanału

grawerowanie
laserowe usunięcie formy
 Grawerowanie laserowe

Etapy procesu:

ƒProjekt mikrokanału (AutoCAD, COREL)

ƒOptymalizacja parametrów grawerowania

ƒGrawerowanie mikrokanału

ƒCzyszczenie struktury
Polimerowe elementy mikroukładów
analitycznych – mikrokanały

płytka
PDMS

150 µm
mikrokanały
 Polimerowe LabChip
- technologia PDMS
lampa Hg

maska fotorezyst naświetlanie

usunięcie PDMS forma wywołanie

bonding
Spin coating
 Polimerowe LabChip
- bonding PDMS

płytka PDMS z mikrokanałem płaska płytka PDMS

plazma tlenowa

Ostateczna struktura mikroprzepływowa

Polimerowe LabChip
- technologia PDMS

15
Polimerowe LabChip
- bonding PDMS

PDMS O O
Si Si Si
O O

Si Si Si
PDMS O O
 Możliwość łączenia różnych materiałów

PDMS można łączyć z:

ƒ PDMS-em

ƒ Szkłem

ƒ Krzemem

ƒ Azotkiem krzemu

ƒ Innymi polimerami
 Modyfikacje powierzchni PDMS

Chemiczna modyfikacja
APTS – 3-aminopropyl triethoxysilane

110° 86°

niemodyfikowany PDMS PDMS po modyfikacji

(10% APTS, 80°C, 2h)
Modifications of PDMS surface

Electroless Ag/Au
deposition
 Polimerowe elementy mikroukładów
analitycznych – technologia PDMS

prepolimer 10 1 zw. sieciujący

mieszanina do
forma z wypukłym
gładka płytka polimeryzacji
wzorem kanałów
PDMS

laserowe usunięcie
grawerowanie formy

plazma O2, bonding

trwale zamknięta
struktura PDMS/PDMS
Polimerowe LabChip
- technologia PDMS

21
Polymer platform
Lab-on-a-Chip

70 mm
 Polimerowe
Lab-on-a-Chip
Miniaturowe detektory polimerowe

Wykład
„Funkcjonalne Materiały Polimerowe”
2006/2007
 Światłowód włóknisty

Moc optyczna

transmitowana
n1 n2 pokrycie

rdzeń
zanikająca
płaszcz
 Sprzęgacz światłowodowy

Moc optyczna

transmitowana

zanikająca

rdzeń
Światłowodowy sprzęgacz chemiczny

Moc optyczna
 Światłowodowy sprzęgacz chemiczny

inlet outlet
Moc optyczna

input
output
 Światłowodowy sprzęgacz chemiczny
układ pomiarowy

peristaltic outlet
pump

sample
LabVIEW

microfluidic
spectrometer
structure
optical fibre optical fibre
LED
 Światłowodowy sprzęgacz chemiczny
oznaczanie glukozy

1,1
1,00
40 % glucose
1,0 concentration:
0,95 increase
decrease
0,9
0,90

Signal/a.u.
Signal/a.u.

0,8
0,85

0,7

water water
0,80

0,6 air air

0,75
0,5
0 5 10 15 20 25 30 35 40 0 10 20 30 40
Time/min Concentration (%)
 Mikrodetektory polimerowe
- etapy technologii PULL OUT
• montaż rurki w formie
• zalanie formy ciekłą mieszaniną PDMS
• sieciowanie polimeru
 Mikrodetektory polimerowe
- etapy technologii PULL OUT

• usunięcie rurki z bloku PDMS

• wyjęcie usieciowanego polimeru z formy
 Mikrodetektory polimerowe
- etapy technologii PULL OUT

• wykonanie otworów wlotowych

• montaż króćców
 Mikrodetektory polimerowe
- etapy technologii PULL OUT

• montaż światłowodów

światłowody PMMA
 MINIATUROWY MODUŁ
DETEKTORA

światłowód 3

światłowód 2
światłowód 1

obj.4 ml

pomiar absorbancji pomiar fluorescencji

światłowód 1 i 2 światłowód 1 i 3
obj. 7,5 µl obj. 0,75 µl
 Fluorescencyjne oznaczanie chininy
16
10 µg/ml
14

12 7.5 µg/ml
Floure s ce nce inte ns ity [cps ]

10

8
5 µg/ml

0 2 4 6 8 10
6 Concentration [µg/ml]

2.5 µg/ml
4
λex= 350 nm
1 µg/ml
2 λem= 450 nm
0.1 µg/ml
0
0.0 µg/ml

0 10 20 30 40
Time [min]
 Polimerowe
Lab-on-a-Chip
mikrotechnologie polimerowe

Wykład
„Funkcjonalne Materiały Polimerowe”
2006/2007
 Fotolitografia

Fotorezyst SU-8 50 opis procesu (1AD/50):

Podłoże – płytka szklana (szkło borokrzemowe), średnica 50 mm, grubość 1.1 mm

Grubość warstwy fotorezystu – 50 µm

1. Czyszczenie podłoża
a. myjka ultradźwiękowa: stężony H2SO4, czas 30 min lub H2SO4 + H2O2
b. płukanie: woda dejonizowana
c. suszenie: azot

2. Dehydratacja
a. hotplate: 200 oC, czas: 5 min
b. ochłodzić do temperatury pokojowej

3. Spin coating
a. objętość SU8: 3 ml
b. obroty: 500 rpm (przyspieszenie 100 rpm/s), czas łącznie z przyspieszaniem: 10 s
c. obroty: 2000 rpm (przyspieszenie 300 rpm/s), czas łącznie z przyspieszaniem: 30 s
 Fotolitografia
4. Soft bake
a. włączona hotplate: 65 oC, czas: 6 min
b. hotplate: 95 oC, czas: 20 min
c. wyłączyć hotplate, ochłodzić do temperatury pokojowej

5. Naświetlanie
a. i-linia (365 nm), energia: 200 mJ/cm2, czas: 90 s

6. Post exposure bake

a. włączona hotplate: 65 oC, czas: 3 min
b. hotplate: 95 oC, czas: 10 min
c. wyłączyć hotplate, ochłodzić do temperatury pokojowej

7. Wywoływanie
a. wywoływacz Microchem, czas: 6 min, roztwór powinien być mieszany

8. Obróbka końcowa
a. płytkę przemyć alkoholem izopropylowym a następnie wodą destylowaną
b. suszenie w delikatnym strumieniu powietrza
 POLIMERY FOTOREAKTYWNE

- Żywice ulegające sieciowaniu pod wpływem

promieniowania

(farby drukarskie, fotorezysty negatywne, stereolitografia,

produkcja dysków wizyjnych CD)

- Polimery ulegające degradacji

(rezysty pozytywne)

- Polimery ulegające izomeryzacji

(efekty fotochromowe, wskaźniki fototermiczne, nieliniowe

materiały optyczne, zapis informacji)

- Układy polimerowe generujące ładunek elektryczny

 PODSTAWY FOTOLITOGRAFII
rezyst
pokrywanie
substrat

Zapis przez maskę

ekspozycja lub bezpośredni

żywice pozytyw negatyw

fotoutwardzalne
np. drukowanie

wywołanie Polimer jest usuwany Polimer pozostaje

z miejsc naświetlonych w miejscach naświetlonych

fotorezysty etap trawienie

np. drukowanie
chipów
przekazanie wzoru

usunięcie rezystu
 REZYSTY POZYTYWOWE
WZROST ROZPUSZCZALNOŚCI PO NAŚWIETLENIU
OH
O O
N2
hν
+ N2
Przegrupowanie
CH2O H+/H2O R R Wolffa
Chinone diazide (DNQ) Ketocarbon O
OH Oleofilowy, inhibitor rozpuszczania C

CH2

H2O Keten
COO R
COOH
Nowolak H2O, pH 12-13
Wywołanie
R R Indene carbonic acid
Promotor rozpuszczania Rozpuszczalny w wodnych
roztworach alkalicznych

Rezyst pozytywowy
Żywica nowolakowa nie zmieniona pod wpływem napromieniowania.
DNQ pełni funkcję inhibitora rozpuszczania lub (po ekspozycji) promotora rozpuszczania.
R=H: używane w druku offsetowym; R=z.B. SO3Ar: używane w mikrolitografii (lampa Hg)
KLASYCZNE ŻYWICE FOTOUTWARDZALNE/REZYSTY NEGATYWOWE
(FOTODIMERYZACJA)

Rezyst negatywowy
O
Kwas cynamonowy przyłączany
Cl
jest do PVA
n
PVA O Obszary naświetlone stają się
O nierozpuszczalne na skutek
sieciowania

Cykloaddycja [2π+2π]

O Problem: potrzeba używania

O rozpuszczalników organicznych
hν
Absorpcja kwasu cynamonowego
O bez fotouczulacza 290 nm
O z fotouczulaczem 360 nm dobre
do naświetlania lampą Hg UV

Usieciowany, nierozpuszczalny
STEREOLITOGRAFIA
A soft-imprint technique for submicron-scale
patterns using a PDMS mold

W.M. Choi, Microel. Engineering, 2004, 178-183

Polimerowe LabChip
- technologia PDMS

45
 Microcontact printing using a PDMS mold

PDMS
pour on cure & stamp
PDMS peel off

master
soak with ink

gold printing

monolayer substrate thiol or thioether ink

wet etching

Y. Xia, G.M. Whitesides, Angew. Chem. Int. Ed. 1998, 37, 550
47
48
Polimerowe LabChip
- technologia PDMS

49
Hot embossing
Hot embossing
Hot embossing
Hot embossing
Hot embossing
Hot embossing
Mikroforma
 Injection molding

Lab-on-a-Chip, 2004, p. 27
Polimerowe LabChip
- technologia PDMS

58
59
62
63
SU-8 szkło szkło

SU-8
SU
-8
szkło

PDMS
PDMS

SU-8

PDMS
64
 Fabrication of carbon microelectrodes with
micromolding technique ......

PDMS microchannel (130 µm wide, 100 µm deep, 2 cm long

M.L. Kovarik, Analyst, 129 (2004) 400-405

 Fabrication of carbon microelectrodes with
micromolding technique ......

Final el.
was 6 µm
in height

Continuous pumping of fluorescein through the flow channel

M.L. Kovarik, Analyst, 129 (2004) 400-405

 Fabrication of carbon microelectrodes with
micromolding technique ......

500 µm of catechol,
Varying amounts of catechol
injection volume 500 nL

M.L. Kovarik, Analyst, 129 (2004) 400-405

 Fabrication of carbon microelectrodes with
micromolding technique ......

Nafion-coated carbon microelectrode

response of dopamine (100 µm)

response of ascorbic acid (100 µm)

response of ascorbic acid (100 µm

using non-modified electrode

M.L. Kovarik, Analyst, 129 (2004) 400-405

 Polimerowe układy analityczne
– mikrokanały 100µm, fotorezyst SU-8

SU-8 szkło szkło

SU-8
SU
-8
szkło

PDMS
PDMS

SU-8

PDMS
 Polyimide and SU-8 microfluidic devices
manufactured by heat-depolymerizable
safricicial material technique

PPC – poly(propylene) carbonate, PEC – poly(ethylene) carbonate

Ph. Renaud, LabChip, 2004, 114-120

 Polymer membrane formation
inside microchannel

Lab-on-a-Chip, 2004, p. 300

 Polymer membrane formation
inside microchannel

Lab-on-a-Chip, 2004, p. 301

 Polimerowe
Lab-on-a-Chip
przykłady rozwiązań

Wykład
„Funkcjonalne Materiały Polimerowe”
2006/2007