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E08 半導體雷射
E08 半導體雷射
E08 半導體雷射
半導體雷射簡介
Semiconductor lasers
24.1 實驗目的
• 了解二極體雷射雷射的機制與驅動方法,認識Power Meter、OSA的使用方法。
• 量測雷射Power-Supply Current特性曲線,並找。觀察雷射頻譜變化。
24.2 器材清單
器材清單如表24.1。
項目 器材名稱 數量 重點規格
1 Fabry-Perot 雷射 FP Laser 1 850nm
2 DFB 雷射 DFB Laser 1 1310nm
垂直共振腔面射
3 VCSEL Laser 1 1550nm
型雷射
4 光功率計 Powermeter 1 FPM-300
Optical Spectral
5 光頻譜儀 1
Analyzer,OSA
三用電錶(電流
6 Multimeter 1
計)
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.3. 預習問題 SEMICONDUCTOR LASERS
24.3 預習問題
1. 簡述產生雷射的條件,並解釋何謂「居量反轉 (population inversion) 」。並說明
目前公認世界第一台雷射 (Mr. Maiman 做出) 之架構及其使用的能級系統?
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
24.4 實驗原理
24.4.1 雷射原理簡介
雷射 (LASER) 是由Light Amplication by Stimulated Emission of Radiation縮寫而成,
意指經由幅射的受激發射而達到光放大。而達成雷射有三個最基本的要素:共振腔
(Resonator)、增益介質 (Gain medium)、泵浦 (Pump),如圖24.1所示。
共振腔的目的在提供受激輻射的反射,減少損耗而達到雷射條件 (損耗=增益),同
時它也決定了雷射的輸出縱向模態;
增益介質則是提供居量反轉 (Population inversion 的環境,讓光子經過可以引發受
激發射而放大;最後,
泵浦則是提供產生居量反轉的能量來源,泵浦的形式可能是電子(電激發)或是另一
道光束(光激發)。
24.4.2 半導體雷射簡介
半導體雷射是以半導體為增益介質的一種雷射,其中最常見的架構為二極體,又稱為
二極體雷射。它的優點在於體積小、重量輕、可靠性高等優點。半導體雷射從結構上
來看,可以簡單分為同質二極體雷射 (Homo-junction diode laser) 以及異質二極體雷射
(Hetero-junction diode laser)。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
而目前市售的半導體雷射元件,通常附帶與一個光電二極體(Photodiode,PD)做
在一起。PD可轉換LD發出的光強度,將光強度轉換為光電流。藉由監測PD的光電
流,可知LD光強是否產生變化,若搭配外部回授控制電路,做成APC (Auto Power
Control) 電路,可確保LD發出的光能量,為一穩定的值。
同質半導體雷射
同質半導體雷射利用相同直接能隙的半導體P-N接面,注入電子而發光,如圖24.2a。
接合面區為發光區,通常稱作主動區(Active layer)。同質結構也要許多的缺點,載子在
通過主動區時的複合效率不佳,光場分布太過發散,這些都導致臨界電流過大。
異質半導體雷射
臨 界 電流 Threshold current
圖24.3是雷射輸出光強度與二極體電流之關係,注入電流高於臨界電流(Threshold
current)時,光\會形成同調發射,此時可定義雷射的
斜度效率(Slope eciency)
∆P
ηs = (24.1)
∆I
對半導體雷射而言,斜度效率通常在0.2 ~0.8 mW/mA。 它利用晶體兩端的劈裂面
作為反射鏡而產生共振腔
雷射的輸出頻譜取決於兩個因素,光增益曲線與共振腔特性。若共振腔只是簡單地由
兩個反射鏡構成,則此為Fabry-Perot(FP)共振腔,參考圖24.4 ,此種共振腔的特性可
以另外參考Fabry-Perot相關實驗。在FP共振腔內可以滿足雷射振盪條件的模態(或者說
是波長)是離散的,而增益曲線有一定的分佈寬度,使得FP雷射是種多模雷射,其模態
間距由兩面反射鏡間距決定,而雷射的模態總數則增益曲線寬度決定。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
雷射光常常需要單一波長的雷射,也就是單一模態。其中一種能達到此目的的元件為
分布式回饋雷射(Distributed feedback,DFB)雷射,如圖24.5所示,除了FP雷射原有的
架構外,在臨近主動區有一個布拉格(Bragg)光柵式的波導層,它乃是利用介質折射係
數週期性的變化所產生。在折射率變化處能產生部分光子的反射,而造成相反方向行
進光之間的耦合(Couple),只有在一個往返行程後之相位改變為2π才會形成駐波,使
得DFB輸出為單一模態。
VCSEL之光共振腔軸與注入電流之方向平行,而非傳統半導體雷射之垂直電流方向,
相較之下,VCSEL的主動區要短得多。共振腔兩端的反射鏡則由交換之高低相對折射
率之介質鏡面(Dielectric mirror)構成,就像是光柵一般。與傳統雷射相比,VCSEL有
較低的臨界電流、較高的耦合效率以及容易封裝、測試等優點。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.4. 實驗原理 SEMICONDUCTOR LASERS
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.5. 實驗步驟 SEMICONDUCTOR LASERS
24.5 實驗步驟
1. 觀察三種半導體雷射上的編號,並依編號翻閱規格書 Datasheet ,分辨何種雷射
為VCSEL、FP、DFB。
2. 特別注意:接觸雷射之前請戴上靜電環
3. 參考圖24.7來判斷腳位。
2. 觀察電流計數值的正負,說
說明 流 過 PD 的 電 流 方 向。
4. 將光纖接於光功率,並設定至目前使用的雷射波長。慢慢增加電流,同時紀
紀錄 光
功 率 值 與 電 流 計 讀 值 ,直到電流上限為止。以
以剛 剛 量 測 的 P-I曲 線 , 概 略 求 出 臨
界電流,以及斜率效率。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.5. 實驗步驟 SEMICONDUCTOR LASERS
6. 以OSA觀 察 雷 射 光 頻 譜 , 比 較 接 近 臨 界 電 流 前 、 後 , 以 及 高 功 率 輸 出(接 近 所
設 定 電 流 上 限 時 ) 的 頻 譜 , 拍 照 存 檔 。 紀 錄 各 「 峰 -峰 」 的 差 異 值 , 估 計 雷 射 的
共振腔長
2. 觀察電流計數值的正負,說
說明 流 過 PD 的 電 流 方 向。
4. 將光纖接於光功率,並設定至目前使用的雷射波長。慢慢增加電流,同時紀
紀錄 光
功 率 值 與 電 流 計 讀 值 ,直到電流上限為止。以
以剛 剛 量 測 的 P-I曲 線 , 概 略 求 出 臨
界電流,以及斜率效率。
6. 以OSA觀 察 雷 射 光 頻 譜 , 比 較 接 近 臨 界 電 流 前 、 後 , 以 及 高 功 率 輸 出(接 近 所
設 定 電 流 上 限 時 )的 頻 譜 , 拍 照 存 檔 。
2. 觀察電流計數值的正負,說
說明流 過 PD 的電 流 方 向 。
4. 將光纖接於光功率,並設定至目前使用的雷射波長。慢慢增加電流,同時紀
紀錄 光
功 率 值 與 電 流 計 讀 值 ,直到電流上限為止。1 ,以
以 剛 剛 量 測 的P-I曲 線 , 概 略 求
出臨界電流,以及斜率效率。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.5. 實驗步驟 SEMICONDUCTOR LASERS
6. 以OSA觀 察 雷 射 光 頻 譜 , 比 較 接 近 臨 界 電 流 前 、 後 , 以 及 高 功 率 輸 出(接 近 所
設 定 電 流 上 限 時 ) 的 頻 譜 , 拍 照 存 檔 。 紀 錄 各 「 峰 -峰 」 的 差 異 值 , 估 計 雷 射 的
共振腔長。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.6. 問題與討論 SEMICONDUCTOR LASERS
24.6 問題與討論
1. 從實驗的結果,包括臨界電流、頻譜、斜率效率等,比較三種雷射的差異,並試
著解釋可能原因。
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CHAPTER 24. 半導體雷射簡介
24.7. 參考書目及補充資料 SEMICONDUCTOR LASERS
24.7 參考書目及補充資料
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