BỘ GIAO THÔNG VẬN TẢI ĐỀ THI HỌC PHẦN

TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHỆ GTVT CÔNG NGHỆ VI CƠ ĐIỆN TỬ (DC3CN22)
TRÌNH ĐỘ ĐẠI HỌC
ĐỀ THI SỐ 5 Hình thức thi: VIẾT – Thời gian: 60 phút

PHẦN I: TRẮC NGHIỆM (5.0 ĐIỂM)

Câu 1: Kỹ thuật phún xạ DC có thể chế tạo được màng mỏng với bia là vật liệu:
A. Không dẫn điện B. Dẫn điện
C. Bia dẫn điện và không dẫn điện D. Bia là chất lỏng.
Câu 2: Trong hiệu ứng tỷ lệ kích thước đối với hệ cơ, các linh kiện MEMS có khả
năng chịu đựng …………. khi có tác động của va đập hay rung động so với loại linh
kiện đó nhưng ở kích thước lớn vĩ mô.
A. Kém hơn. B. Tốt hơn.
C. Tương đương. D. Tùy thuộc vào mức độ va đập.
Câu 3: Vật liệu chủ yếu nhất hiện nay được sử dụng để chế tạo các cấu trúc MEMS ba
chiều bằng công nghệ vi cơ khối ướt là
A. Nhôm B. Silic C. Platin D. Thủy tinh
Câu 4: Hiệu ứng tỷ lệ kích thước đối với một hệ mạch điện, khi ta thu nhỏ một điện
trở về kích thước MEMS thì giá trị của điện trở sẽ
A. Tăng lên. B. Giảm đi.
C. Không thay đổi. D. Tùy vào vào công nghệ chế tạo.
Câu 5: Mặt nạ quang là công cụ cần thiết được sử dụng trong phương pháp quang
khắc. Mặt nạ quang có cấu trúc bao gồm tấm phẳng bằng vật liệu trong suốt và các
vùng chắn sáng bằng kim loại được phủ lên bề mặt của tấm đó. Tấm phẳng trong suốt
thường được làm bằng vật liệu gì?
A. Thủy tinh và nhựa plastic trong suốt B. Nhựa plastic trong suốt.
C. Thạch Anh. D. Thủy tinh và thạch anh.
Câu 6: Bốc bay chân không (bốc bay nhiệt) là kỹ thuật chế tạo màng mỏng trong chân
không trên cơ sở quá trình tách các nguyên tử hay phân tử khỏi nguồn vật liệu rắn nhờ
sự nung nhiệt. Chân không được khống chế trong buồng bốc bay cỡ
A. 10-5 mmHg - 10-7 mmHg. B. 10-1 mmHg - 10-3 mmHg.
C. 10-8 mmHg - 10-10 mmHg. D. 10-3 mmHg - 10-5 mmHg.
Câu 7: Lớp Silic Oxit (SiO2) thường dùng trong chế tạo linh kiện với vai trò là lớp
cách điện hay lớp bảo vệ trong quá trình khuếch tán. Người ta thường tạo ra lớp này
bằng kỹ thuật ôxy hóa nhiệt khô hoặc ôxy hóa nhiệt ướt từ phiến Silic (Si). Trong kỹ
thuật ôxy hóa khô, khí ôxy sạch được đưa vào lò ôxy hóa, nhiệt độ ôxy hóa có giá trị
trong khoảng
A. 900oC - 1200oC B. 300oC - 500oC
C. 1500oC - 2000oC D. 100oC - 200oC
Câu 8: Loại dung dịch HNA nào dưới đây sẽ cho tốc độ ăn mòn ướt lớn nhất
A. 20%HF – 30% HNO3 – 50% Axetic axit.
B. 30%HF – 20% HNO3 – 50% Axetic axit.
C. 40%HF – 30% HNO3 – 30% Axetic axit.
DC3CN22- Đề thi số 5- Trang 1/2
 D. 50%HF – 30% HNO3 – 20% Axetic axit.
Câu 9: Đây là hình ảnh của một cấu trúc sử dụng dung dịch KOH để ăn mòn. Cho biết
đây là dạng ăn mòn nào?

A. Ăn mòn ướt đẳng hướng. B. Ăn mòn ướt dị hướng.

C. Ăn mòn khô đẳng hướng D. Ăn mòn khô dị hướng.
Câu 10: Chất cảm quang được phân thành 2 loại là cảm quang dương và cảm quang
âm. Sau khi chiếu sáng bằng ánh sáng UV, chất cảm quang sẽ bị tan mạnh trong dung
dịch hiện hình (developer) là loại
A. Cảm quang dương.
B. Cảm quang âm.
C. Cả 2 loại đều tan mạnh.
D. Tùy thuộc vào bước sóng ánh sáng chiếu vào mà loại nào sẽ tan nhiều hơn.

PHẦN II: BÀI TẬP (5.0 ĐIỂM)

Bằng hiểu biết của mình. Em hãy trình bày quy trình công nghệ chế tạo một cấu
trúc điện cực kim loại Platium (hình B) từ đế Silic (hình A) như hình vẽ ? Nêu rõ các
quá trình công nghệ trong quá trình thực hiện các bước chế tạo.

CÁN BỘ RA ĐỀ CÁN BỘ PHẢN BIỆN TRƯỞNG BỘ MÔN

Võ Thanh Được Dương Quang Khánh Dương Quang Khánh

DC3CN22- Đề thi số 5- Trang 2/2