Download as pdf or txt
Download as pdf or txt
You are on page 1of 12

АЛМАЗНІ

НАНОМАТЕРІАЛИ

ВЛАСТИВОСТІ ТА ОТРИМАННЯ
ВЛАСТИВОСТІ
АЛМАЗУ
Особливості Застосування
Високі значення: Оптика ІЧ- та мм- діапазону (СО2 лазери)
теплопровідності; Теплопровідні підкладки для електроніки
твердості; Детектори іонізованого випромінювання
швидкості звуку у середовищі; НВЧ-прилади
оптичного пропускання у Радіаційно-стійка активна електроніка,
широкому спектрі частот (від Електроди для електрохімії
УФ до радіохвиль);
пробійної напруги; Інструменти із алмазними покриттями
радіаційної стійкості; Елементи мікроелектромеханіки
біосумісності біосенсори
АЛМАЗНІ
МОНОКРИСТАЛИ
Природні алмази Штучні алмази

Не контрольовані домішки, Домішки каталізаторів;


дефекти; малі розміри розміри ~ мм.
АЛОТРОПНІ ФОРМИ
КАРБОНУ
СТРУКТУРНІ ТИПИ
МОНОВАЛЕНТНИХ АТОМІВ
ВУГЛЕЦЮ
ДІАГРАМА СТАНУ
КАРБОНУ
Перетворення графіту в алмаз –
поліморфний перехід (одна
кристалічна гратка атомів карбону
перетворюється в іншу).

*поліморфний перехід являє собою


перехід від одної кристалічної гратки
до іншої однієї і тієї ж хімічної
сполуки, в той же час як алмаз та
графіт являють собою не тільки різні
речовини, але і різні хімічні сполуки,
які є валентно-структурними
ізомерами.

Перетворення їх - це хімічний процес, який відбувається із зміною валентного


стану карбону, природи хімічного зв’язку (розриваються ковалентні -зв’язки
карбону в графіті та утворюються нові -зв’язки С-С в алмазі) та структури
вуглецевого скелета.
МЕТОДИ ОТРИМАННЯ
АЛМАЗУ
CVD:
CHEMICAL VACUUM DEPOSITION

Підкладка CH4: H2 (O2, Ar, N2)


CVD:
CHEMICAL VACUUM DEPOSITION

Товщина плівок: 1-1000 мкм;


НВЧ-джерело: 5 кВт, 2,45 ГГц;
Тиск у камері: 20-150 мм.рт.ст.;
Температура підкладки: 1000-1300 K;
Швидкість осадження: 1-8 мкм/год
CVD:
CHEMICAL VACUUM DEPOSITION
ВУГЛЕЦЕВІ
НАНОТРУБКИ
ВУГЛЕЦЕВІ
НАНОТРУБКИ

Графен
Фулерени Графіт

Вуглецеві нанотрубки

You might also like