技術動態　1

技術動態

光纖光柵製作與應用
林來誠

　　石英系光纖由於摻有少量的鍺，其纖核在強紫外光的照射下折 射 率
會 發 生 永 久 性 的 改 變 ， 這 種 感 光 (photosensitive)的 現 象 是 由 Ken Hill 等 人
於 1978 年 在 加 拿 大 Communications ResearchCenter(CRC)工 作 時 偶 然 發 現
的 。 光 纖 光 柵 (fiber grating) 便 是 利 用 此 種 感 光 效 應 ， 改 變 單 模 光 纖 中 某
一段纖核的折射率，使其具有光柵的功能。

　　光纖光柵主要的作用在於濾波，當寬頻的光訊號通過光纖光柵時 ，
光 柵 能 非 常 有 效 地 將 波 長 滿 足 布 拉 格 條 件 (Bragg Condition： 即 折 射 率 變
化 週 期 為 1/2 波 長 的 整 數 倍 )的 入 射 光 反 射 ， 其 它 波 長 的 光 則 不 受 光 柵 的
影響而通過。光纖光柵的工作波長決定於折射率變化週期，而工作頻寬
及反射率則決定於光柵的長度及纖核折射率的變化量；一般而言， 光 柵
越長，其頻寬越窄、反射率也越高。

光柵的製作

　　光柵的製作過程相當簡單，只需利用週期性或非週期性的強紫 外 光
條紋，曝照含鍺量較高的單模光纖 ，使纖核的折射率隨條紋產生變化即
可；若在充氫氣的環境下進行曝光 ，可增加感光的靈敏度，降低曝光 所
需的時間。

　 　 United Technologies Lab 的 Bill Morey 及 Gerry Meltz 在 80 年 代 末 期

首 先 用 分 光 鏡 將 紫 外 光 雷 射 分 成 兩 束， 然 後 利 用 反 射 鏡 將 兩 束 光 在 適 當
的 位 置 重 合 ， 產 生 干 涉 條 紋 照 射 光 纖， 使 纖 核 成 為 光 柵 。 此 方 法 的 優 點
是 可 以 很 容 易 地 改 變 干 涉 條 紋 的 週 期， 製 作 出 不 同 特 性 的 光 纖 光 柵 ； 不
過，由於需要用到複雜的光學系統及同調性很好的紫外光雷射，加上干
涉條紋易受環境震動影響、條紋週期隨干涉角度而變、光柵長度受到雷
射光束半徑大小的限制等缺點，所以該方法並不適於用來作光纖光柵的
量產。

　 　 CRC 的 Ken Hill 等 人 在 1993 年 時 提 出 較 適 於 用 來 量 產 的 方 法：此 法

是先用電子束曝光的方式將適當的二次元圖案刻蝕在石英玻璃基板上 ，

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獨家報導　2

製 成 具 繞 射 功 能 的 相 位 光 罩 (Phase Mask)， 再 用 紫 外 光 雷 射 照 射 光 罩，讓

-1 階 及 +1 階 的 繞 射 光 互 相 干 涉 ， 產 生 明 暗 條 紋 來 曝 照 光 纖 ； 製 作 光 纖 光
柵時只需將裸光纖置於光罩上， 在 背後照以紫外光雷射即可。 此 方 法 的
好處是不需複雜的光學設備且對光源的同調性要求不高，一旦相位光罩
製作好後，便能輕易地複製出許多相同的光纖光柵；不過，相位光罩的
製作成本較高、

不同特性的光柵需要不同的光罩等是此方法的缺點 。在製作相位 光罩
時，如果選擇適當的刻蝕深度及形狀，可將第 0 階的繞射光強度減至最
小，提高干涉條紋的對比並增加光柵的反射率。適當的相位光罩圖案設
計可產生週期性或非週期性的干涉條紋，製造出不同特性的光柵以切合
不 同 的 用 途 ； 此 外 ， 由 於 電 子 束 曝 光 刻 蝕 的 方 法 能 作 出 非 常 精 細 (<nm)
的 繞 射 條 紋， 加 上 電 子 束 曝 光 刻 蝕 可 作 出 相 當 長 (∼ 125mm)的 相 位 光 罩 ，
因 此 可 得 到 濾 波 效 果 非 常 好 (頻 寬 窄 、 反 射 率 高 )的 光 纖 光 柵 。

光柵的應用

　 　 近 年 來 隨 著 資 訊 科 技 的 高 度 發 展， 通 信 傳 輸 的 需 求 亦 不 斷 大 幅 成
長 ； 為 了 滿 足 傳 輸 上 的 需 求 ， 除 了 鋪設 新 的 光 纜 外 ， 便 是 在 現 有 的 傳 輸
幹 線 上 使 用 密 波 長 多 工 (Dense Wavelength DivisionMultiplexing, DWDM)技
術，在一條光纖內同時傳送數個不同波長的光信號，以增加傳輸容量 。
由 於 長 途 傳 輸 須 使 用 摻 鉺 光 纖 放 大 器 (Erbium Dopped Fiber Amplifier,
EDFA) 作 為 信 號 中 繼 器 ， 傳 輸 信 號 的 波 長 必 須 在 EDFA 的 放 大 頻 寬
(~1532-1560nm) 內 才 能 同 時 為 一 個 EDFA 放 大， 因 此 波 長 通 道 間 的 間 隔 相
當緊密；為了避免訊號間互相干擾 ，在發送端各光源的波長必須非常的
準確而穩定，信號在接收端解多工後須經濾波以增加訊號間的隔離度 。
光 纖 光 柵 可 在 DWDM 傳 輸 系 統 中 提 供 濾 波、 穩 頻 及 控 制 半 導 體 雷 射 波 長
等 功 能 ， 在 DWDM 技 術 持 續 發 展 的 帶 動 下 ， 光 纖 光 柵 正 逐 漸 走 出 實 驗
室、進入實用的階段。

　 　 長 途 通 信 用 的 分 佈 回 饋 (DFB) 半 導 體 雷 射 在 製 作 的 過 程 中 ， 由 於
dopant 的 量 及 一 些 幾 何 參 數 無 法 非 常 精 確 地 掌 握 ， 因 此 製 作 出 來 的 雷 射
波 長 會 有 些 誤 差 (目 前 的 生 產 技 術 大 約 可 達 到 目 標 波 長 的 1nm 內 )， 這 種
精 度 的 光 源 並 不 能 滿 足 某 些 DWDM 應 用 的 需 求； 為 改 善 此 狀 況，可 以 將
光柵作在雷射的引線光纖上，使光柵成為雷射體外共振腔的反射鏡而構

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 技術動態　3

成 體 外 共 振 腔 二 極 體 雷 射 (External Cavity Diode Laser,ECDL)， 迫 使 雷 射

依光柵的工作波長發光，達到選頻及穩頻的作用。此外，由於光柵的週
期可用壓縮、拉伸或改變溫度的方式加以改變，因此雷射的發光波長亦
可用這些方法來調整，如此可大幅放鬆對雷射本體的規格要求，因而提
高 生 產 良 率 ， 並 可 使 雷 射 波 長 的 誤 差 控 制 在 目 標 波 長 的 0.1nm 內 。

　 　 EDFA 系 統 中 980nm 泵 激 雷 射 的 波 長 及 波 長 的 穩 定 性，關係到 EDFA

性 能 的 好 壞 ， 光 纖 光 柵 的 使 用 不 但 可 以 改 善 EDFA 的 性 能 ， 同 時 亦 可 減
輕對泵激雷射的要求，因而降低生產的成本。此外，摻鉺光纖內非週 期
性的光柵可在放大頻寬內產生適當的損失，將增益曲線平坦化，大大 簡
化 了 DWDM 傳 輸 系 統 的 構 造 。

　 　 在 DWDM 傳 輸 系 統 上 的 應 用， 光 纖 光 柵 除 了 濾 波 及 光 源 的 穩 頻 與 選
頻 外，還 可 被 用 來 作 為 長 距 離 傳 輸 的 色 散 補 償。早 期 鋪 設 的 光 纖 在 1310nm
波 長 附 近 有 最 小 的 色 散 ， 不 過 為 了 配 合 EDFA 的 使 用 ， 目 前 大 都 改 用
1550nm 波 段 ， 但 也 因 而 產 生 色 散 的 問 題 ， 解 決 的 辦 法 之 一 是 在 適 當 的 距
離處加裝色散補償的元件；若將光纖光柵的週期作成適當的分佈， 將 可
產生與光纖相反的色散效果，達到補償色散的作用。

　　在光電元件的應用方面，光纖雷射亦可採用光纖光柵技術：將一 段
摻 鉺 光 纖 的 兩 端 做 成 1550nm 的 光 柵， 使 其 中 一 個 光 柵 為 高 反 射 率，另 一
個 的 反 射 率 稍 低，再加上泵激的 980nm 雷 射 後 便 成 為 一 個 1550nm 的 光 纖
雷射。與體外共振腔二極體雷射同樣的，光纖光柵雷射可用拉伸或 改 變
溫度的方式改變光柵的週期，進而控制雷射的發光波長；一般通信用的
光 纖 可 被 拉 長 1% 左 右 的 長 度 ， 因 此 可 調 的 波 長 範 圍 達 10nm。

由於光纖光柵的特性與光纖所受的應力、張力或溫度有關，因此 光
纖光柵亦可用來作為感測的元件；例如將光纖光柵放在橋樑或機翼的 結
構中，利用其特性的改變便可即時地監控光柵所在位置的溫度、應 力 等
變化。預期未來光纖光柵的應用及發展潛力將是相當可觀的。

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