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LC/MS 시스템의 오염 제어
모범 사례

이 문서에서는 UPLCTM/MS, HPLC/MS 및 MaxPeak Premier 시스템(임상 및 비임상)의 오염

제어에 대한 모범 사례를 설명합니다. 적합한 오염 제어 계획에는 오염 방지, 문제 해결
및 세척에 대한 대책이 포함됩니다.

중요: 이 문서는 오염 방지, 문제 해결 및 세척에 대한 다른 모든 Waters 문

서를 업데이트, 대체 및 보완합니다.

중요: MaxPeak Premier 시스템을 세척할 때 HPS 구성 요소를 우회하십시오.

주의: MaxPeak HPS 구성 요소를 pH 2 ~ 10 범위를 벗어나 실행하지 말고, 염

소화 또는 브롬화 용매를 사용하지 마십시오.

참고 : 오염의 원인을 이해하려면 주요 오염물 및 오염원 , 31 페이지의 내용을 참조하십

시오.

참고: 이 문서의 권장 사항을 따랐지만 여전히 오염에 대한 도움이 필요한 경우, Waters
담당자에게 문의하십시오.

© 2021 WATERS CORPORATION. ALL RIGHTS RESERVED.

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목차

오염 방지 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3
정확한 용매 선택, 준비 및 취급 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3
실험실 유리 제품을 적절히 세척 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 6
정확한 샘플 준비 및 취급 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 7
깨끗한 피팅(Fitting) 및 튜브 사용 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
장갑 착용 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 8
깨끗한 컬럼 사용 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
실험실 내부 공기 점검 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
오염 문제 해결 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11
LC 또는 MS 시스템에 대한 문제 해결 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
LC 시스템 문제 해결 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 12
MS 시스템 문제 해결 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 15
오염 제거를 위한 세척 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16
일반 지침 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16
MS 시스템 세척 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 21
참조 정보 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
용매 고려 사항 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 23
권장되는 물 정제 과정 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29
장갑 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 30
주요 오염물 및 오염원 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 31
오염물 데이터베이스 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 33

LC/MS 시스템의 오염 제어
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오염 방지

오염 제어를 위해 가장 중요한 것은 오염 방지입니다. 오염 문제를 해결하거나 제거하는

것보다 오염 자체를 방지하는 것이 훨씬 쉽습니다. 오염을 방지하려면 이 단원의 단계를
따르십시오.

정확한 용매 선택, 준비 및 취급

오염으로부터 보호하려면 용매 ( 또는 이동상) 의 선택 및 사용에 대한 세심한 주의가 필

요합니다(낮은 품질의 용매로 인한 영향, 23페이지 참조). 용매를 사용할 때 다음의 절차
를 따르십시오.1

참고: 용매 권장 사항 및 주의 사항에 대한 자세한 내용은 시스템 사용자 안내서를 참조

하십시오.

깨끗하고 입자가 없는 용매 사용

주의: 사용 목적에 적절한 등급의 용매를 사용하지 않으면 과도한 백그

라운드 노이즈와 감도 손실이 발생할 수 있습니다.

이동상을 준비할 때는 항상 화학적으로 깨끗하고 입자가 없는 용매 ( 표 3) 및 시약을 사

용해야 합니다. 용매는 UPLC 등급이거나 작업 목적에 적합한 품질 수준이어야 합니다.
(용매 고려 사항, 23페이지 참조).

새로 만든 용매 사용
가능한 최신 용매를 사용합니다 . 용매 보관 시에는 항상 미생물 번식을 예방하기 위한
조치를 취해야 합니다(용매는 깨끗한 덮개가 있는 유리 저장 용기에 보관, 6페이지 참조).
용매가 대기에 노출될 경우, 공기 중 오염물에 의해 오염될 위험이 높습니다.

주의: 유기 용매를 사용하는 경우, 제조업체가 제안한 유효 기간에 주의

하십시오. 개봉된 병의 용매는 오염되었을 수 있습니다.

1. 권장 사항은 Waters 실험실의 경험을 토대로 합니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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초순수 사용
초순수 (UPLC/MS, HPLC/MS 및 MaxPeak Premier 시스템에 유해한 오염물을 특정하게 제
거하는 시스템을 통해 정제된 물)를 사용합니다.

참고: 권장되는 물 정제 과정, 29페이지 참조.

초순수는 무균이며, 0.2마이크론을 초과하는 입자가 없고, 이온화될 수 있는 검출 가능

한 화합물(>18-MOhm.cm 저항)이 없으며, 모니터링 파장에서 UV 흡광도가 낮습니다. 초
순수를 사용하면 약 용매로 평형 상태에 도달하는 동안 컬럼에서 수집될 수 있는 물에
포함된 불순물의 양이 줄어듭니다.

미생물 번식 예방
액상 이동상 및 물은 미생물이 번식하기 쉬워 기울기 작업 중 피크가 나타나고 등용매
작업 중에 백그라운드 흡광도가 증가할 수 있습니다. 미생물 번식은 필터, 프릿 및 컬럼의
막힘을 초래해 체크 밸브가 오작동할 수 있습니다. 이러한 문제는 컬럼의 높은 압력 또는
펌프 역압을 일으켜 궁극적으로 조기 컬럼 고장 및 시스템 종료에 이를 수 있습니다.

이동상에서 미생물 번식을 예방하려면 매일 수용성 이동상을 준비하고 필터링 및 탈기

하십시오. 시스템을 종료할 때나 장기간 멈출 때(예를 들면 주말) 시스템을 물로 완전히
플러시합니다. 그런 다음 10%(최소)의 적절한 유기 용매(예: 아세토니트릴 또는 메탄올)
로 플러시합니다.

주의: 시스템을 물이나 90% 이상의 수용성 이동상에 보관하지 마십시

오. 미생물에 의해 오염될 수 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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첨가물 사용 최소화

주의: 미생물 번식을 예방하기 위해 저장 용기에 첨가물을 추가하지 마

십시오.

• 백그라운드를 낮추려면 최저 농도의 이동상 첨가물(예: 양호하고 안정적인 크로마토

그래피와 호환되는 산성, 염기성 또는 버퍼)을 사용하십시오. 첨가제를 많이 사용할
수록 더 많은 오염물이 이동상에 유입될 수 있습니다.
• 새로운 Method를 개발하거나 기존 Method를 새 컬럼으로 이전할 때는 더 이상 크로
마토그래피에 영향을 미치지 않는 첨가물을 제거하십시오. 예를 들어, 많은 컬럼에서
염기성 화합물에 대한 양호한 피크 모양을 얻는 데 TEA는 더 이상 필요하지 않습니다.
• 사용 가능한 최고 품질의 첨가물을 사용합니다(최소한 LC/MS 등급 첨가물).
• 철 및 기타 금속 이온의 농도가 낮은 첨가물(예: 포름산)을 사용하십시오. 아세트산은
상당한 양의 철과 기타 금속 이온을 포함할 수 있습니다.
• 침전을 방지하려면 유기물 함량이 높은 용리액에서 무기염이나 첨가물을 사용하지
마십시오. 이러한 염이나 첨가물은 유기물 함량이 높은 기울기 후반부에서 침전될 수
있습니다.
• 질량 분석기와 호환되는 휘발성의 첨가물을 사용하십시오.

주의: 질량 분석기를 사용하는 경우 나트륨(Na+), 칼륨(K+) 또는 인산염

(PO43-)과 같은 비휘발성 첨가물을 피하십시오.

주의: 일부 첨가물은 질량 분석기와 호환되지 않을 수 있습니다. 호환되

는 첨가물은 시스템과 함께 배송된 문서를 참조하십시오.

• 암모늄(NH4+), 아세트산염, 포름산염 또는 탄산염을 포함하는 휘발성 첨가물을 권장

합니다.

주의: 실리카는 pH가 10 이상인 용매에서 용해됩니다. 시스템에 용융 실

리카 및 유리 성분 ( 예 : nanoACQUITY 또는 M-Class UPLC™ 시스템 )
이 있는 경우 pH가 10 이상인 용매 사용을 피하십시오. 시스템을 높
은 pH에 보관하지 마십시오. 플러시한 다음, 메탄올 또는 첨가물이
나 버퍼가 없는 최소 10%의 유기 용매에 보관합니다.

• 첨가물을 포함한 이동상을 사용한 후 시스템을 플러시할 때는 시스템을 최소 5분간

(물 50mL 이상) 플러시하십시오. 10%(최소)의 적절한 유기 용매(예: 아세토니트릴 또
는 메탄올)를 사용합니다.

혼합 가능한 용매 사용
모든 용매와 샘플(첨가물 포함)이 잘 섞여야 합니다. 단백질(조직, 혈액 또는 혈청 샘플
의 단백질 ) 은 높은 (>40%) 유기 용매에서 침전될 수 있습니다 . 침전된 단백질이 주입기
및 튜브의 막힘을 초래하거나 분석물질이나 오염물을 흡수할 수 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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용매는 깨끗한 덮개가 있는 유리 저장 용기에 보관

• 이동상을 깨끗한 갈색 붕규산 유리 용기에 보관하십시오(실험실 유리 제품을 적절히
세척, 6페이지 참조). 붕규산 유리는 타입 1, 클래스 A 또는 타입 3.3이어야 합니다.

주의: 제조업체가 용매를 배송한 갈색 병은 붕규산이 아니며 액상 용액

을 보관하기 위해 사용하지 않아야 합니다.

주의: 액체를 가소제(예: 프탈레이트)가 포함되어 유기 오염을 촉진할 수

있는 플라스틱에 보관하지 마십시오.

• 공기 중 오염물이 용매에 유입되지 않도록 저장 용기를 덮으십시오.

• 저장 용기를 덮으려면 시스템과 함께 제공된 알루미늄 호일 또는 캡을 사용하십시오.

주의: 용매 용기를 덮는 목적으로 Parafilm® 또는 기타 플라스틱 필름을

사용하지 마십시오.

• 분석에 적합한 가장 작은 용매 저장 용기를 사용하십시오(유속 및 실행 거리에 따라

다름).
• 용매를 가득 채우지 마십시오 . 대신에 오래된 용매를 폐기하고 , 병과 용매 Inlet 필터
를 사용될 용매로 헹군 다음 새 용매로 다시 채우십시오. 마지막으로, 시스템을 프라
이밍합니다.

실험실 유리 제품을 적절히 세척

이동상을 준비하거나 저장하기 위해 사용된 유리 용기는 사용 전에 철저히 세척해야 합

니다.

표준 세척 프로세스

주의: 세제 또는 식기 세척기에 유리 제품을 세척하지 마십시오.

주의: 유리 제품은 항상 크로마토그래피에 사용하는 것과 동일한 이동

상/용매로 세척하십시오.

먼저 유기 용매로, 그 다음 물로 유리 제품을 헹굽니다.

강한 세척 프로세스
더 강한 세척이 필요할 경우( 예: 용기의 사용 이력을 모를 경우), 다음 절차를 사용하십
시오.

1. 10% 포름산이나 질산으로 초음파 처리한 다음 물, 메탄올이나 아세토니트릴, 물의

순서로 초음파 처리합니다.
2. 2회 더 반복합니다.

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3. 이동상을 준비하거나 저장하기 위해 사용된 유리 제품은 일반 유리 제품과 별도로

보관하십시오.
4. 유리 제품이나 용매 저장 용기가 미생물 번식으로 오염될 경우 오토클레이브에서
처치하십시오.

a. 이동상 저장 용기와 기기 사이의 모든 필터와 튜브를 분리하여 교체합니다.

b. 아세토니트릴이나 메탄올로 시스템을 퍼지하고 밤새 그대로 둡니다.

정확한 샘플 준비 및 취급

샘플에 입자가 없는지 확인합니다. 동시에 샘플 준비 및 취급 과정에 오염물이 들어가지

않도록 주의를 기울여야 합니다.

효율적인 콜드 트랩 사용
샘플을 농축, 냉동 건조 또는 증류할 경우 효율적인 콜드 트랩을 사용하십시오. 그렇지 않
을 경우 진공 펌프 오일이 역류하여 오염을 일으킬 수 있습니다.

깨끗한 바이알, 캡 및 플레이트 사용

1. Waters 브랜드 바이알을 사용하십시오. 특정 수준의 청정도 인증을 받은 제품들입

니다. (사용 목적에 적합한 바이알을 선택합니다.) 다른 바이알에는 사용 목적에 부
적절하고 시스템을 오염시키는 오염물이 포함될 수 있습니다.
2. 바이알과 병 캡의 라이너에 오염물이 없는지 확인하십시오(제조업체의 설명 확인).
• 안쪽이 종이로 된 바이알이나 용기 캡은 사용하지 마십시오. 종이는 오염원으로 될 수 있습니다.
• 자체 밀봉 Septa 는 LC/MS 및 MaxPeak Premier 시스템 용도에 부적절할 수 있는 실리콘을 포함하
고 있습니다.
• 단일층 셉타는 Sample Manager를 오염시킬 수 있는 플라스틱이나 접착제가 포함되지 않은 경우
허용됩니다(PTFE 권장).
3. Waters 브랜드의 Well 플레이트를 사용하십시오. 다른 브랜드는 가소제(예: 디옥실
프탈레이트(Diisooctyl phthalate))를 침출할 수 있습니다.
4. 포일로 안을 채운 플레이트 덮개는 알루미늄이 용매에 닿지 않아 가능한 반응을 일
으키지 않는다면 허용됩니다.
5. 자체 밀봉 또는 접착 캡 매트를 사용하지 마십시오. 접착제에 오염물이 포함될 수 있
습니다.
6. 샘플 희석액, 이동상 및 세척 용매에 사용되는 용매와 호환되지 않는 캡 매트를 사용
하지 마십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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깨끗한 피팅(Fitting) 및 튜브 사용

연결 부위에 깨끗한 불활성 재료 사용

1. 용매나 샘플과 접촉하는 연결 부위에는 고정 장치, O-링, 체크 밸브 및 용매 Inlet 필

터(싱커)가 있습니다.
2. Inlet 튜브의 레이블에 오염물이 포함되어 있을 수 있습니다. 용매 또는 이동상에 접
촉하지 않아야 합니다.
3. 일부 유형의 튜브(예: 폴리염화비닐 또는 PVC)에는 가소제 또는 기타 오염물이 포함
되어 있습니다.

주의: 해당 표면을 만지거나 오염물이 함유된 모든 물체와 접촉시키지

마십시오.

장갑 착용

입자와 분말이 없는 라텍스 계열이 아닌 장갑 착용

다음과 같은 경우 Waters의 무균 니트릴(Nitrile) 장갑을 착용하십시오(표 4 참조).

• 이동상이나 샘플과 접촉하는 UPLC, HPLC 또는 MaxPeak Premier 시스템의 부품을 취

급하는 경우
• "청결 중요"라는 레이블이 붙은 부품으로 오래된 부품을 교체하는 경우

주의: 우연한 피부 접촉을 방지하기 위해서는 장갑을 착용해야 합니다.

손가락골무는 허용되지 않습니다.

장갑이 젖으면 교체

주의: 장갑을 착용한 상태에서도 표면을 만질 때는 주의하십시오. 장갑

은 건조한 상태로 유지하고, 장갑이 젖으면 교체하십시오. 젖은
장갑은 오염을 일으킬 수 있습니다. 장갑을 자주 교체하십시오.

장갑 착용
오염 방지를 위한 장갑 착용에 대한 지침은 장갑을 착용하는 방법, 30페이지를 참조하십
시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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깨끗한 컬럼 사용

중요: 컬럼 사용과 관리에 대한 자세한 지침은 컬럼 제조업체가 제공한

관리 및 사용 지침을 참조하십시오. (두 가지 예: ACQUITY UPLC
and ACQUITY Premier BEH Columns Care and Use Manual("ACQUITY
UPLC 및 ACQUITY Premier BEH 컬럼 관리 및 사용 설명서"),
715001371 및 Atlantis Premier BEH C18 AX Columns Care and Use
Manual("Atlantis Premier BEH C18 AX 컬럼 관리 및 사용 설명서"),
720006576.)

깨끗한 컬럼 사용
UPLC, HPLC 또는 MaxPeak Premier 컬럼의 컬럼 헤드는 입자, 침전된 단백질 및 기타 유기
오염물에 의해 막힐 수 있습니다. 이러한 오염물은 작동 압력을 높이거나 크로마토그래
피 선택성을 변경시켜 컬럼의 수명에 나쁜 영향을 미칠 수 있습니다 . 게다가 천천히 빠
져 나와 교차 오염과 백그라운드 잡음을 증가시킬 수 있습니다.

컬럼은 또한 용매로부터 불순물도 흡수할 수 있습니다. 이러한 흡수는 다음과 같은 경우

발생할 수 있습니다.

• 높은 액상 조건에서 장기간 역상 컬럼(예: C18)을 평형화할 경우

• 낮은 유기 농도에서 역상 컬럼을 등용리 조건으로 실행할 경우
흡수된 화합물은 별개의 피크 또는 전체 크로마토그램에서 스미어(smear)로 용리될 수
있습니다. 추적 농축 효과는 용매, 또는 UPLC, HPLC 또는 MaxPeak Premier 시스템에 존재
하는 오염의 양을 증가시킵니다.

참고: 컬럼 세척에 대한 지침은 컬럼 세척, 17페이지를 참조하십시오.

컬럼 보관
컬럼은 원래 담겨 있던 용매에 보관하십시오(예: 100% 아세토니트릴). 보관하기 전에 컬
럼을 플러시하여 버퍼와 첨가물을 제거합니다.

참고: 자세한 지침은 컬럼 제조업체에서 제공한 용매 권장 사항을 참조하십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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실험실 내부 공기 점검

실험실 공기를 깨끗하게 유지

실험실 공기에 존재하는 화합물이 LC/MS 또는 MaxPeak Premier 시스템을 오염시킬 수
있습니다.

• 실록산(Siloxane)은 종종 실험실 내부 공기에 존재합니다. 이 화합물은 탈취제 및 기타

화장품에 존재하며, NanoFlow 와 같은 특정 조건에서 오염을 일으킬 수 있습니다 ( 그
림 1).

그림 1 – ESI+ 실록산(Siloxane) 오염을 보여주는 스펙트럼

• 프탈레이트도 실험실 내부 공기에 존재합니다. 공기 중 프탈레이트(Phthalate)는 에어

콘 필터에서 나오며 공기와 접촉하는 모든 용매나 고체를 오염시킬 수 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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오염 문제 해결

이 단원은 LC/MS 또는 MaxPeak Premier 시스템에서 오염 문제를 해결하는 일반적인 방

법을 설명합니다. 플로우차트를 사용하여 계속 진행하십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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LC 또는 MS 시스템에 대한 문제 해결

참고: 이 단원을 시작하기 전에 11페이지의 플로우차트 단계를 완료하십시오.

1. ESI 프로브 및 주입 메커니즘을 이동상 이외의 깨끗한 용매로 플러시하고 실린지 주

입 키트를 직접 ESI 프로브에 연결합니다.

중요: 시스템에서 사용하는 이동상을 MS에 주입합니다(예: 0.3 mL/분에서

50:50 A/B 혼합물). 전체 LC 및 용매 관리 시스템을 우회해야 합니다.

• 오염 수치가 감소할 경우 오염물은 주로 LC 시스템에 있을 가능성이 있습니다. LC 시스템 문제 해

결, 12페이지.
• 오염 스펙트럼의 강도가 줄어들지 않을 경우 오염원이 MS 시스템에 있을 수 있습니다(소스, Inlet
튜브, 유체 장치 등). MS 시스템 문제 해결, 15페이지.

LC 시스템 문제 해결

새 컬럼 사용해 보기

참고 : 저농도 유기 이동상( 예: 최초 조건 ) 을 장시간 실행할 경우 오염물이 컬럼에 모여

농축될 수 있습니다(극미량 농축물). 오염물은 기울기가 실행될 때 컬럼에서 용리
됩니다.

이동상 점검
1mL의 이동상 A와 1mL의 이동상 B를 깨끗한 바이알에서 혼합하십시오. 질량 분석기에
혼합물을 주입합니다.

• 오염이 존재할 경우 문제는 병이나 이동상에 있습니다. 오염 방지, 3페이지에서 깨끗

한 용매 및 용기의 사용에 대한 지침을 참조하십시오.
• 주입 시 오염이 없을 경우 깨끗한 프로브를 통해 질량 분석기로 50:50 A/B 혼합물을
펌프합니다. 오염이 보일 경우 Solvent Manager/크로마토그래피 펌프 또는 Sample
Manager/Autosampler에 있거나 두 가지 모두에 있을 수 있습니다. 오염원인 구성 요소
를 확인하려면 제로(0) 부피 주입을 하십시오.

제로(0) 부피 주입을 하십시오.

• 오염물이 보이면, Solvent Manager/크로마토그래피 펌프를 점검하십시오.
• 오염물이 없으면, Sample Manager/Autosampler를 점검하십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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Solvent Manager/크로마토그래피 펌프를 점검하십시오.

Solvent Manager/크로마토그래피 펌프를 Sample Manager/Autosampler로부터 분리하고
질량 분석기로 직접 펌프합니다.

• 오염이 존재할 경우 Solvent Manager/크로마토그래피 펌프가 오염원입니다. Sample

Manager/Autosampler를 다시 연결하고 일반 지침, 16페이지를 따릅니다.
• 오염이 존재하지 않을 경우, Sample Manager/Autosampler를 점검하십시오.

Sample Manager/Autosampler를 점검하십시오.

1. 컬럼이 아직 분리되지 않은 경우 분리합니다.

2. Sample Manager/Autosampler를 통해 세척 용액을 Waste로 펌프합니다.
니들 세척 흐름 경로를 플러시하려면 펌프 플러시에 사용한 것과 동일한 용액을 사
용하십시오. 대용량(예: 3X 과충전을 사용한 전체(Full) 루프)의 세척 용액도 주입합
니다 . 세척 용액이 산성인 경우 , 다량의 물로 플러시합니다 . 그런 다음 이동상으로
돌아가서 철저히 플러시합니다. 오염이 존재할 경우 문제가 샘플인지, 희석액인지,
주입 장치 또는 샘플 용기인지 확인합니다.

3. 희석에 사용된 용매, 물 및 산을 확인합니다.

샘플 희석액(예: 동일한 비율의 물과 아세토니트릴 또는 메탄올과 0.1% 포름산 혼합
물)을 질량 분석기로 주입하여 오염을 확인합니다. 이 "바탕 용액"에 오염이 없을 경
우 오염은 원본 샘플에서 나왔습니다.

오염이 지속되면, 샘플을 확인합니다.

4. 샘플을 확인합니다.
희석된 샘플을 질량 분석기에 주입합니다.

참고 : PEG 는 샘플 전처리 또는 PEG 화된 제약 화합물에 사용되는 세척제에서 나올

수 있습니다.

오염이 지속되면, 주입 장치와 샘플 용기를 확인하십시오.

5. 주입 장치와 샘플 용기를 확인하십시오.

각 구성 요소를 세척하거나 교체합니다. 그런 다음 주입 테스트를 반복합니다. 주입
장치와 용기가 깨끗한 경우, 니들 세척 용액을 확인하십시오.

6. 주입 부피를 변경합니다.
샘플 희석액을 변경해도 문제가 해결되지 않을 경우 2배 이상까지 주입 부피를 조정
하십시오. 오염이 주입 부피 변화에 따라 증가하거나 감소할 경우 샘플이 오염된 것
일 수 있습니다. 새로운 샘플이나 추가적인 샘플 클린업이 필요할 수 있습니다.

샘플 부피 변화가 Carryover 피크에 영향이 없을 경우, 주입 모드를 변경합니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
715001307KO 버전 08 14 / 33

7. 주입 모드를 변경합니다.
부분 루프 니들 과충전(PLNO) 모드는 부분 루프 또는 전체 루프 모드보다 많은 교차
오염을 일으킬 수 있습니다 . 샘플이 강한 니들 세척액으로 플러시되지 않는 VDD 를
통해 유입되기 때문입니다.

오염이 지속되면, 니들 세척 용액을 확인하십시오.

8. 니들 세척 용액을 확인하십시오.
세척 용매가 올바릅니까? 그렇지 않을 경우 올바른 세척 용액을 사용하십시오. 또 주
입하고 오염을 확인하십시오. 여전히 오염이 존재하는 경우, 주입기의 튜브 및 피팅
(Fitting)을 점검하십시오.

9. 주입기의 튜브 및 피팅(Fitting)을 점검하십시오.

특히, 주입기 Outlet부터 컬럼 Inlet까지 부분을 확인합니다. 무용 부피가 있을 경우
오염이 이 공간에 축적될 수 있습니다. 튜브와 피팅(Fitting)을 교체합니다. 또 주입하
고 오염을 확인하십시오. 여전히 오염이 존재하는 경우, 니들을 교체합니다.

10. 니들을 교체합니다.

니들을 교체한 다음 다시 주입합니다. 일부 소수성 화합물은 PEEK 니들에 흡착됩니
다. 오염이 지속되면 스테인레스 니들로 바꿔보십시오. 그래도 오염이 계속되면, 다
른 주입기 부품을 교체합니다.

11. 다른 주입기 부품을 교체합니다.

다른 주입기 부품(예: 니들 세척 포트, 주입기 밸브 포드)을 교체하십시오. 교체할 수
있는 특정 주입기 부품에 대해서는 운영자 설명서를 참조하십시오 . 이동상으로 시
스템을 플러시합니다. 또 주입한 다음 오염을 확인합니다.

a. 여전히 오염이 존재하면, MS 시스템 문제 해결, 15페이지를 참조하십시오.

b. 오염이 존재하지 않으면, 컬럼을 다시 설치합니다.
12. 컬럼을 다시 설치합니다.
컬럼을 다시 설치한 다음 오염을 확인합니다. 오염이 나타날 경우, 컬럼을 설치한 상
태에서 다음 단계를 반복하십시오(단, 주입 단계 생략).
• 제로(0) 부피 주입을 하십시오., 12페이지
• Solvent Manager/크로마토그래피 펌프를 점검하십시오., 13페이지
• Sample Manager/Autosampler를 점검하십시오., 13페이지

LC/MS 시스템의 오염 제어
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MS 시스템 문제 해결

액체 크로마토그래피 시스템의 문제 해결로 오염의 위치를 파악하지 못할 경우 가능한

원인은 질량 분석기 시스템입니다.

중요: 일반적인 백그라운드 잡음을 제거하려고 시간과 자원을 낭비하지

마십시오. MS 시스템의 민감한 특성은 어느 정도 화학적 백그라운
드가 일정하도록 영향을 미칩니다. 게다가 MS 시스템의 유형에 따
라 민감도가 다릅니다. 예를 들어, 민감도가 높은 기기일수록 백그
라운드가 더 높습니다 . 감도는 절대 카운트만이 아니라 신호대 잡
음비와도 관련됩니다.

전방 구성 요소 확인
MS 오염의 가능한 위치는 전방 구성 요소에 있습니다.

• ESI 프로브(프로브 끝, 모세관, 유니온)

• 샘플 콘
• LockSpray 배플
• 이온 소스 블록
• 소스 인클로저
• 컬럼 Outlet을 API 소스로 연결하는 PEEK 튜브
• 일체형 흐름 전환/주입 밸브의 구성 요소(장착된 경우)
• 스로틀 밸브(장착된 경우)
• PEEK 지지 블록
• LC 튜브
• 질소 기체 튜브
• 질소 기체 소스(예: 생성기)

구성 요소의 제거, 세척 또는 교체 및 테스트

한 번에 하나씩 이 구성 요소 각각을 제거하여 세척하거나 교체하고 테스트합니다. 여전
히 오염이 존재할 경우 MS 구성 요소가 세척 후 재오염된 것일 수 있습니다. 이러한 문제
를 방지하기 위해 모든 의심되는 부품을 동시에 세척하고 교체하십시오.

오염된 구성 요소 세척 또는 교체
테스트 후 백그라운드 잡음이 높을 경우 마지막으로 추가된 구성 요소를 세척하거나 교
체하십시오(오염 제거를 위한 세척, 16페이지 참조).

LC/MS 시스템의 오염 제어
715001307KO 버전 08 16 / 33

오염 제거를 위한 세척

경고: 부상을 방지하려면 용매 및 세척 용액으로 작업할 때 항상 실험실

안전 관리 기준을 준수합니다. 용매 및 용액의 화학적, 물리적 속
성을 숙지합니다. 사용 중인 각 용매 및 용액에 대해서는 안전 보
건 자료를 참조하십시오.
용매나 세척 혼합물을 취급할 때는 항상 보안경과 장갑을 착용하
십시오.

주의: 오염원을 찾아 제거할 때까지 시스템을 세척하지 마십시오. 원인

을 찾지 않고 세척할 경우, 오염물이 곧 다시 나타나며 시스템을
다시 세척해야 합니다.
세척하기 전에 LC 시스템을 컬럼 및 검출기에서 분리합니다.
용매와 산 또는 염기는 세척 및 사용시 최고 순도여야 합니다.

중요: MaxPeak Premier 시스템을 세척할 때 HPS 구성 요소를 우회하십

시오.

LC/MS 시스템을 세척해야 할 경우 오염물과 오염원의 이해가 반드시 필요합니다 . 자세

한 내용은 주요 오염물 및 오염원, 31페이지를 참조하십시오.

일반 지침

Waters 시스템의 오염을 세척하려면 이동상(가장 높은) 품질의 용매와 산 또는 염기만 사

용하십시오.1 컬럼 및 검출기(질량 분석기를 포함한 모든 검출기)를 분리합니다. 오염물
이 무엇인지 알고 있는 경우 가장 용해도가 높은 혼합물을 사용합니다.

시스템 구성 요소를 80% 유기 용매 및 20% 물과 같은 유기물 함량이 높은 용매로 플러시

한 다음, 오염 여부를 테스트합니다. 백그라운드가 허용 수준으로 떨어질 때까지 절차를
반복합니다.

주의: 인산으로 플러시하기 전에 HPS 구성 요소를 우회해야 합니다.

세척한 후에는 50% 아세토니트릴이나 이동상으로 헹궈 세척 용액을 제거합니다. 인산

세척액을 사용하는 경우, pH가 중성에 가까워질 때까지(pH=7) 초순수(초순수 사용, 4페
이지 참조)로 시스템을 펌프합니다.

1. 이러한 세척 지침은 실험실에서 쉽게 이용 가능한 재료를 사용한 전통적인 기법에 기초한 것입니
다. 주로 역상 LC/MS에 적용됩니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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컬럼 세척

중요: 수산화암모늄과 같은 첨가물이 포함된 용매로 세척하는 경우, 실

리카 포장재가 pH > 8에서 용해됩니다. 이동상 pH가 8보다 클 경
우, Waters ACQUITY UPLC 및 ACQUITY Premier BEH 또는 XBridge ™
컬럼과 같이 높은 pH에서 더 안정된 컬럼을 사용하십시오.

실리카 포장재 세척에 대한 자세한 지침은 컬럼 제조업체에서 제

공한 관리 및 사용 지침을 참조하십시오.

오염된 컬럼을 세척하려면 오염물을 제거하고 컬럼에 손상을 주지 않는 용매로 컬럼을

세척합니다. 실행이 끝날 때 역상 컬럼을 높은 비율(예: 80%)의 유기 이동상으로 플러시
하여 세척하는 것이 좋습니다.

참고: 컬럼 세척에 대한 자세한 지침은 컬럼 제조업체가 제공한 관리 및 사용 지침을 참

조하십시오.

MS 시스템에 권장되는 세척 절차
독립형 MS 시스템을 세척하려면 시스템에 맞는 세척 절차(Waters 지원 라이브러리에서
제공)를 사용하십시오.

• 질량 분석 사용자 안내서

LC Inlet 구성 요소에 권장되는 세척 혼합물

주의: 교차 오염을 방지하기 위해 LC Inlet을 세척하기 전에 컬럼 및 질량

분석기의 연결부를 분리하십시오.

LC Inlet을 세척하려면 표 1의 권장 세척 혼합물을 사용하십시오.

해당 시스템에 적절한 기타 세척 절차에 대해서는 Waters 지원 라이브러리를 참조하십

시오.

• 분리 시스템을 위한 정기적인 세척 절차
• UPLC/UHPLC 사용자 안내서
• ACQUITY UPLC 및 ACQUITY Premier 사용자 안내서
• Alliance HPLC 사용자 안내서

LC/MS 시스템의 오염 제어
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최종 헹굼
혼합물로 세척한 후, LC Inlet을 다음 중 하나로 헹굽니다.

• 초순수(인산 세척에 필요)

• 50:50 물/유기 용매 혼합물
• 크로마토그래피 Method 이동상의 50:50 혼합물

중요: 항상 시스템에 이동상(pH) 조건과 가장 유사한 세척 용매를 남겨

두십시오.

주의: 인산으로 플러시하기 전에 HPS 구성 요소를 우회해야 합니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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LC/MS 시스템의 오염 제어

표 1: LC Inlet용 권장 세척 혼합물1

세척 조건 용매 혼합물(v/v) 저장 용액 농도 설명 주의 코멘트

1 • 80% 2-이소프로판올(IPA) • ~99% 포름산 산에 더 잘 용해되는 화합 • 머무름 시간 문제를 방지하 • 표준 또는 "산 세척"
• 10% 물 물의 경우 부식성이 강한 려면 세척 용액과 호환되는 • 산성 이동상으로 사용할
• HPLC 및 UPLC 시스템의 세척 혼합물 최소 50mL의 용매로 플러시 LC Inlet을 세척합니다.
경우 10% 포름산 하십시오. • 포름산은 휘발성입니다.
• HPS 구성 요소 및 • 고순도 포름산은 고가입
MaxPeak Premier 시스템 니다.
의 경우 1% 포름산 • 흘리지 않을 때는 세척 용액
을 밤새 남겨 놓지 마십시오.
• 100% 유기물을 강산과 혼합
하지 마십시오.

• 최종 헹굼: 세척에 사용된 라인을 몇 분 동안 초순수로 프라임합니다.

2 • 80% 2-이소프로판올(IPA) • ~29% 암모늄 염기에 더 잘 용해되는 화 • ACQUITY M-Class, • "염기성 세척"
• 10% 물 • ~56.6% 수산화암모늄 합물, 예를 들어, 프탈레이 nanoACQUITY 또는 pH10 이 • 염기성 이동상으로 사용
• HPLC 및 UPLC 시스템의 트 및 세제를 포함한 PEG 상에서 용해되는 실리카 모 할 LC Inlet을 세척합니다.
경우 10% 수산화암모늄 포함 화합물의 경우, 부식 세관 튜브가 포함된 시스템 • 수산화 암모늄은 휘발성
(농축) 성이 강한 세척 혼합물 에서 사용하지 마십시오. 입니다.
• HPS 구성 요소 및 (Triton X-100, Triton X-114, • 머무름 시간 문제를 방지하
MaxPeak Premier 시스템 Brij 35). 려면 세척 용액과 호환되는
의 경우 0.1% 수산화암 최소 50mL의 용매로 플러시
모늄 하십시오.
• 흘리지 않을 때는 세척 용액
을 밤새 남겨 놓지 마십시오.
• 100% 유기물을 강산과 혼합
하지 마십시오.

• 최종 헹굼: 세척에 사용된 라인을 몇 분 동안 초순수로 프라임합니다.

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 표 1: LC Inlet용 권장 세척 혼합물1

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LC/MS 시스템의 오염 제어

세척 조건 용매 혼합물(v/v) 저장 용액 농도 설명 주의 코멘트

3 • 30% 인산(농축) ~85% 인산 유기 오염물 제거를 위한 • 30% 인산 플러시를 위해 • "인산 세척"

• 70% 물 부식성이 강한 혼합물. HPS 구성 요소를 우회하십 • 인산은 강산 및 산화제
시오. 모두로 작용하여 화합물
• 용매가 튀어 화상을 입지 않 을 제거합니다.
도록 저으면서 물에 산을 천 • 휘발성이 없으며 질량 분
천히 첨가하십시오. 석기와 호환되지 않습
• 질량 분석기와 호환되지 않 니다.
습니다. • 감도 손실.
• 머무름 시간 문제를 방지하 • 98에서 클러스터가 관찰
기 위해 세척 용액과 호환되 될 수 있습니다.
는 용매(예: 100% 물)로 중성
pH(pH=7)에 도달할 때까지
플러시하십시오.
• 흘리지 않을 때는 세척 용액
을 밤새 남겨 놓지 마십시오.
• 인산염은 고농도 유기물에
용해되지 않습니다. 항상 인
산염을 다량의 물로 플러시
하십시오.
• 100% 유기물을 강산과 혼합
하지 마십시오.

• 최종 헹굼: 세척에 사용된 라인을 몇 분 동안 초순수로 프라임합니다.

4 100% IPA N/A 중성, 소수성 화합물 • 100% 유기물을 강산과 혼합 N/A
하지 마십시오.
• 나트륨, 칼륨, 인산염 침전
물이 포함된 무기 염.

1. 오염원으로 확인된 LC Inlet 구성 요소를 세척할 때는 다음 세척 용액만 사용하십시오(오염 문제 해결, 11페이지 참조). 컬럼을 세척할 때 이러한 세척 용액을
사용하지 마십시오. 컬럼 제조업체가 제공한 관리 및 사용 지침을 참조하십시오.

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Solvent Manager/크로마토그래피 펌프 세척
Solvent Manager/ 크로마토그래피 펌프 ( 또는 Solvent Manager/ 크로마토그래피 펌프 및
Sample Manager/Autosampler)를 통해 세척 용액을 Waste로 펌프합니다. 그런 다음 이동
상으로 철저히 플러시합니다.

주의: 인산으로 플러시하기 전에 HPS 구성 요소를 우회해야 합니다.

주의: 인산으로 플러시한 경우, 이동상 전에 물로 플러시해야 합니다.

Sample Manager/Autosampler 세척
Sample Manager/Autosampler를 통해 세척 용액을 Waste로 펌프합니다. 동일한 용액을
사용하여 니들 세척 흐름 경로를 플러시합니다. 또한 대량의 세척 용액을 주입합니다(고
정 루프 Sample Manager 의 경우 전체 루프 또는 FTN Sample Manager 의 경우 사용 가능
한 최대 용량). 그런 다음 분석을 위해 필요한 이동상 및 세척 용액으로 돌아가서 철저히
플러시합니다.

컬럼 세척
컬럼 세척, 17페이지 참조.

MS 시스템 세척

의심되는 MS 구성 요소의 제거, 세척 또는 교체

오염을 일으키는 것으로 의심되는 MS 구성 요소를 제거, 세척 또는 교체합니다. 최고 순
도의 용매를 사용합니다. 목표는 MS 구성 요소 표면에서 오염물을 용해시키는 것입니다.
세척된 또는 새로운 구성 요소를 다시 오염시키지 않으려면 체계적인 세척 프로세스를
따르십시오. 때로는 용매와 접촉하는 첫 번째 구성 요소부터 마지막 구성 요소까지 한 번
에 한 구성 요소씩 세척하거나 교체할 수 있습니다. 다른 경우라면 의심되는 모든 구성 요
소를 동시에 세척하는 것이 좋습니다. 최고 순도 용매와 깨끗한 유리 제품을 사용하십시
오(오염 방지, 3페이지 참조).

1. 깨끗한 솜이나 보풀이 없는 천으로 구성 요소를 조심스럽게 닦아냅니다.

주의: 독성 오염물과 접촉하는 것을 방지하기 위해 장갑과 보안경을 착

용하십시오.

2. 15분 ~ 1시간 동안 용매에서 구성 요소를 초음파 처리합니다. 권장되는 MS 세척 용

액은 표 1을 참조하십시오.

참고: 오염의 효과적인 제거를 위해 각 단계에서 새 세척 용매로 여러 번 초음파 작업이

필요할 수 있습니다. 각 초음파 처리 단계는 15분에서 1시간 정도 걸립니다. 유속
이 낮을 경우 더 긴 시간이 필요할 수 있습니다(예: M-Class).

LC/MS 시스템의 오염 제어
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3. 이러한 용액으로 오염 수준을 낮추지 못할 경우 부품을 교체하십시오.

주의: PEEK 구성 요소와 T-Wave 어셈블리의 손상을 방지하려면 염소계 용

매, 헥산, 아세톤 또는 산성 물질에서 초음파 처리하지 마십시오.

4. 유리 제품을 철저히 헹구고 각 단계 사이에 새로 깨끗한 용매를 사용하십시오.

5. 최종 초음파 처리 후 MS 구성 요소를 세척 용액에서 꺼냅니다. 깨끗하고 강한 건조 질
소를 통과시켜 구성 요소를 신속히 건조시킵니다.

주의: MS 성능에 영향을 미칠 수 있는 용매 점적을 방지하기 위해 신속하

고 철저한 건조가 필요합니다.

유체
배관의 나머지 부분에서 오염을 제거한 후 제조업체의 지침에 따라 유체 부분을 빼내 세
척합니다. 로터 Seal에 특히 주의하십시오. 기계적 마모(원형 홈에서 관찰 가능)가 오염
부위로 작용할 수 있습니다. 필요할 경우 Seal을 교체하십시오.

API 소스
정상 작업 중에 대량의 샘플 물질에 노출될 수 있기 때문에 대기압 이온화 (API) 소스가
가장 일반적인 MS 오염 위치입니다. 일반적인 유지 관리 절차에 따라 소스를 분해하고
세척합니다. 용매에서 API 소스 구성 요소를 15분 ~ 1시간 동안 초음파 처리합니다.

중요: 용매 품질과 유리 제품 청결도를 보장하십시오(정확한 용매 선택,

준비 및 취급, 3페이지).

주의 사항: 이온 전달 영역 전방의 이온 광학 장치는 MS 분석에 의해 검

출할 수 있는 오염 위치가 될 가능성이 없습니다.

API 프로브
오염된 API 프로브를 세척 또는 플러시하지 말고 교체하거나 재조립하십시오.

LC 튜브
오염된 LC 튜브는 반복 플러시를 통해 세척하기 보다는 교체하는 것이 좋습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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참조 정보

용매 고려 사항

낮은 품질의 용매로 인한 영향
모든 분석에 높은 등급의 용매가 필요한 것은 아닙니다 . 용매를 선택할 때는 사용 목적
에 가장 적합한 고순도 용매를 선택하십시오. 용매 오염물의 유형과 결과를 고려하십시
오. 표 2에 낮은 품질의 용매가 분석에 미치는 영향이 나와 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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LC/MS 시스템의 오염 제어

표 2: 낮은 품질의 용매로 인한 영향

용매 오염물 가능한 문제 분석 고려 사항 예방 조치

0.2마이크론 미만의 입자 함유 • 시스템 배압 및 고압 중단 증가 가동 중단 시간이 증가하고 생산 • 공급업체에서 여과한 고순도

• 튜브와 컬럼 막힘 성 저하 용매만 사용하여 0.2마이크론
• 펌프 및 주입기의 손상으로 인 이상의 입자를 제거하십시오.
해 누수가 발생하고 결과를 재 • 장갑을 착용하여 피부나 핸드
현할 수 없음 크림의 오일을 제거하십시오.
• 공급업체에서 여과한 용매를
다시 필터링하지 마십시오.

미생물 - 세균, 해조류, 균류 • 미립자와 동일하게 작용함 • 오염을 제거하느라 가동 중단 • 새로운 수성 이동상을 사용합
• 유기 및 이온 오염 화합물 생성 시간이 증가하고 생산성 저하 니다.
• 감도 손실 • 장갑을 착용하여 피부나 핸드
크림의 오일을 제거하십시오.
• 여과된(<0.2-마이크론 필터) 
깨끗한 고순도 물을 사용하십
시오.
• 절대로 용기가 넘치게 하지 마
십시오. 용기를 비우고, 세척하
고, 새 이동상으로 다시 채웁
니다.
• 시스템을 높은 수성 이동상에
보관하지 마십시오.
• 이동상 용기에 적절한 마개를
사용하십시오.

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 표 2: 낮은 품질의 용매로 인한 영향

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LC/MS 시스템의 오염 제어

용매 오염물 가능한 문제 분석 고려 사항 예방 조치

UV 흡수 유기 화합물(TUV, PDA에 • 노이즈가 많거나 변동하는 • 낮은 농도의 분석물을 높은 감 • 플라스틱 용기를 용매 또는 이

서 검출 가능) (경사) 베이스라인 도로 검출하려면 최고의 신호 동상 저장 용기로 사용하지 마
• 고스트 피크 대 잡음비를 얻기 위해 부드럽 십시오.
• 감도 손실 고 평탄한 베이스라인이 필요 • 장갑을 착용하여 피부나 핸드
합니다. 신호 대 잡음비가 높을 크림의 오일을 제거하십시오.
• 직선성 손실
수록 정량화의 재현성이 향상 • LC 유기 용매에 적합한 바이알,
• 머무름 시간 이동 됩니다. Well 플레이트 및 캡을 사용하
• 비정상적인 피크 모양 • UV 백그라운드가 높으면 높은 십시오.
분석물 농도에서 Method의 직 • LC 유리 제품(용기, 깔때기, 눈
선성이 감소할 수 있습니다. 금 실린더 등)을 세제로 세척하
지 마십시오.
• 전용 LC 유리 제품을 준비하십
시오.
• 공급업체에서 여과한 용매를
다시 필터링하지 마십시오. 필
터 또는 필터링 장치는 오염물
을 추가할 수 있습니다.

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 표 2: 낮은 품질의 용매로 인한 영향

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LC/MS 시스템의 오염 제어

용매 오염물 가능한 문제 분석 고려 사항 예방 조치

질량 분석기에서 검출될 수 있는 • 노이즈가 있거나 높은 베이스 • 낮은 질량 이온, PEG 화합물 및 • 플라스틱 용기를 용매 또는 이
이온화 가능 유기 화합물 라인 프탈레이트(가소제)로 인한 오 동상 저장 용기로 사용하지 마
• 감도 손실 염은 다음과 같은 문제를 일으 십시오.
• 고스트 피크 킬 수 있습니다. • 플라스틱은 프탈레이트의 공
• 머무름 시간 이동 • 감도 손실, 이온 억제로 인한 급원이며 공기, 물 및 용매를
낮은 신호 대 잡음비 포함하여 어디에서나 발견됩
• 비정상적인 피크 모양
• 분석물과 동일한 질량에서 스 니다.
펙트럼 피크가 나타남 • 장갑을 착용하여 PEG가 함유된
오일 및 핸드크림으로부터 피
부를 보호하십시오.
• LC 유기 용매에 적합한 바이알,
Well 플레이트 및 캡을 사용하
십시오.
• LC 유리 제품(병, 깔때기, 눈금
실린더 포함)을 세제 또는 식기
세척기로 세척하지 마십시오.
• 전용 LC 유리 제품을 준비하십
시오.
• 공급업체에서 여과한 용매를
다시 필터링하지 마십시오. 필
터 또는 필터링 장치는 오염물
을 추가할 수 있습니다.

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 표 2: 낮은 품질의 용매로 인한 영향

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LC/MS 시스템의 오염 제어

용매 오염물 가능한 문제 분석 고려 사항 예방 조치

무기 이온 • 질량 분석기에서 양이온(Na+, • 분석물 스펙트럼 피크를 질량 • 여과된(<0.2-마이크론 필터) 깨

K+)이 검출되는 제형 첨가물 이 다른 여러 피크로 분할하는 끗한 고순도 물과 용매를 사용
• 감도 손실 부가물 형성으로 인한 감도 손 하십시오.
• 고압 및 막힘 실(예: Na+는 m/z를 22 amu 증 • 고순도 이동상 첨가제를 사용
가시킴). 하십시오.
• 클러스터 형성(예: NaCl 클러스
터, 델타 질량 = 57.96) • 무기 화합물은 높은 유기 용매 • 붕규산(강화) 유리를 이동상 저
농도에서 용해되지 않아 고압 장 용기(예: Pyex® 또는 Schot®)
• 철 Fe+3의 빨간색 침전물, "녹"
및 막힘이나 클러스터를 발생 로 사용하십시오.
이 나타남
시킵니다. • 산, 염기 또는 버퍼가 포함된
이동상에 원래 용매 용기를 사
용하지 마십시오. 이로 인해 유
리에서 이온이 침출됩니다.

가스 불순물로 인한 원치 않는 스펙트 품질이 좋지 않은 가스일 경우 • 질량 분석기 현장 요구 사항을

럼(예: 오일) 백그라운드가 오염됩니다. 충족하는 가스를 준비하십시
오(질소 95% 순도 이상, IMS 또
는 GC의 경우 99.5% 순도, 아르
곤 99.997% 순도, 헬륨 99.5% 
순도).
• 입자 크기가 0.01마이크론 미
만이고 프탈레이트와 액체(예:
물)가 없는 질소 생성기를 사용
하십시오.
• 잘 유지보수된 질소 생성기를
사용하십시오.
• 가스 배관은 금속 이온 오염을
최소화하기 위해 화학적으로
세척된 구리이거나 용접 또는
용접 연결부가 없는 스테인레
스여야 합니다.

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권장되는 용매 순도
고순도 용매는 표 3에 표시된 기준을 충족합니다.

참고: 표 3의 값은 알려진 사용 가능한 LC/MS 용매로부터 얻었습니다. 일부 브랜드에는

이러한 값보다 높은 순도를 나타내는 분석 인증서가 첨부됩니다.

표 3: LC/MS 용매 순도 권장 사항

권장 레벨
매개 변수
아세토니트릴 메탄올 이소프로판올 물
(Acetonitrile) (Isopropanol)

분석 99.9 % 99.9 % 99.9 % 99.9 %

여과됨 0.2마이크론 0.2마이크론 0.2마이크론 0.2마이크론

알루미늄(Al) 25 ppb 50 ppb 20 ppb 50 ppb

칼슘(Ca) 50 ppb 50 ppb 50 ppb 50 ppb

철(Fe) 20 ppb 20 ppb 20 ppb 10 ppb

납(Pb) 20 ppb 20 ppb 20 ppb 10 ppb

마그네슘(Mg) 20 ppb 20 ppb 20 ppb 10 ppb

칼륨(K) 50 ppb 50 ppb 50 ppb 50 ppb

나트륨(Na) 50 ppb 50 ppb 50 ppb 50 ppb

증발 잔류물 25 ppb 25 ppb 25 ppb 25 ppb

물 0.01% 0.05% 0.05% N/A

LC/MS 시스템의 오염 제어
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권장되는 물 정제 과정

초순수는 무균이며 미립자가 없고 , 검출 가능한 이온화 화합물과 UV 흡수 화합물이 포

함되어 있지 않습니다. 정제 과정에는 다음 단계가 모두 포함되어야 합니다.

a. 역삼투(대부분의 오염물 제거)

b. UV 살균(박테리아 파괴)
c. 이온 교환(잔류 이온 제거)
d. 탄소 정화(이온화될 수 있는 잔류 화합물 제거)
e. 제약 등급 0.2µm 멤브레인 필터(잔류 입자 제거)

주의: 하우스 탈이온수(DI), 역삼투수(RO) 및 증류수는 이러한 기준을 충

족하지 않습니다.

주의: 정화 시스템을 사용하는 경우 정기적인 유지 관리를 수행해야 합

니다.

기타 고려 사항

• Outlet 라인에 24시간 이상 흐름이 없을 경우 플러시하여 세균 번식을 제거합니다.

• 물이 정화되면 미생물 번식을 예방할 조치를 취하지 않고 24시간 이상 저장하지 마십
시오.
• 병에 든 물을 사용하는 경우 제조업체가 제시한 유효 기간에 주의하고 기간이 지난
물은 폐기하십시오. 개봉된 병의 물은 오염되었을 수 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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장갑

장갑 주문
표 4: 니트릴(Nitrile) 장갑

파트 넘버 설명 개수

700002964 무균 니트릴(Nitrile) 장갑, 사이즈 7 3 컬레

700002965 무균 니트릴(Nitrile) 장갑, 사이즈 9 3 컬레

장갑을 착용하는 방법
커프가 노출될 때까지 포장 날개를 펴서 장갑을 여십시오(그림 2).

그림 2 – 포장에서 장갑 꺼내기

커프가 위로 걷어 올라져간 모습을 유지하면서 한쪽 장갑의 커프를 잡고 손에 장갑을 착

용합니다. 다른 쪽의 장갑도 반복하십시오. 그런 다음 두 장갑의 커프를 아래로 내리십
시오.

주의: 장갑을 착용할 때 장갑의 손가락 부분을 맨손으로 만지지 마십시

오. 장갑을 착용하면 취급하거나 서비스하는 중요 청결 부품 이외
의 아무 것도 만지지 마십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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주요 오염물 및 오염원

본 단원은 LC/MS 시스템의 몇 가지 주요 오염물과 그 오염원 및 스펙트럼에 대해 설명합

니다.

폴리에틸렌 글리콜(PEG) 또는 PEG 유사 물질

PEG(그림 3)는 일정 범위의 분자량에서 생성된 합성 중합체입니다. PEG의 일반적인 오
염원은 다음과 같습니다.

• 유기 용매(메탄올, 2-프로판올, 아세토니트릴, 물)

• 질량 분석기 검량 용액
• 핸드 크림 및 기타 개인 위생 용품
• 세제(Triton X-100, 유리 제품 세제 등)
• 기계 가공의 절단 용액
• 컬럼 제조

그림 3 – PEG 오염 스펙트럼(44Da에 의해 분리된 일련의 질량 피크)

LC/MS 시스템의 오염 제어
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금속 이온
리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 구리(Cu), 백금(Pt) 및 철(Fe)과 같은 금속 이온은 오염원이
될 수 있습니다.

예를 들어, 철은 아세트산이나 아세트산염 이동상에서 다양한 수의 아세트산염을 가진 부

가물을 만들어 냅니다. 철은 다음 오염원을 통해 LC/MS 시스템을 오염시킬 수 있습니다.

• 물 및 아세토니트릴과 같은 용매
• 아세트산(포름산에서 낮음)
• 포름산(Formic acid).
• 부동화되지 않은 스테인레스 부품
• 스틸 공구로 조립된 티타늄 또는 불활성 금속 부품

그림 4는 일반적인 패턴의 Fe-아세트산염 클러스터 스펙트럼을 보여줍니다. 가장 강한

이온(기본 피크 세기 또는 BPI) 질량은 클러스터에서 아세트산염의 수에 따라 다를 수 있
습니다. 위쪽 스펙트럼은 MassLynx 동위 원소 모델에 기초한 것입니다.

그림 4 – Fe 오염 스펙트럼

프탈레이트(Phthalate)
프탈레이트(Phthalate)는 가소제로 많이 사용되는 화합물이며 오염을 일으킬 수 있습니
다 . 이 화합물은 물과 기타 용매 , 실험실 공기 및 튜브와 물 보관 용기와 같은 플라스틱
재료를 포함하여 다양한 범위의 실험실 재료에서 검출될 수 있습니다. 일반적인 프탈레
이트(Phthalate)는 DEHP(di-2-ethyl hexyl phthalate), DIDP(diisodecyl phthalate),
DINP(diisononyl phthalate) 및 DIOP(diisooctyl phthalate) 등이 있습니다.

LC/MS 시스템의 오염 제어
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디옥실 프탈레이트(Diisooctyl phthalate)는 다음 부가물을 만들 수 있습니다.

• [M+H]+ = 391
• [M+Na]+ = 413
• [M+K]+= 429
• [2M+NH4]+= 798
• [2M+Na]+ = 803

이장제(아미드)
이장제 또는 아미드가 들어 있는 플라스틱 가방에 포장된 구성 요소는 사용하지 않도록
합니다(그림 5). 3가지 가장 일반적으로 사용되는 아미드:
• Oleamide ([M+H]+=282)
• Stearamide ([M+H]+=284)
• Erucamide ([M+H]+=338)

그림 5 – Zip Bag에서 Oleamide 및 Erucamide의 오염 스펙트럼

오염물 데이터베이스

주요 오염물에 대한 전체 목록은 PEG 마스터 목록 및 백그라운드 이온 마스터 목록을 참

조하십시오.

LC/MS 시스템의 오염 제어