Professional Documents
Culture Documents
1 D
1 D
1 D
SAULĖS ELEMENTAI
Saulės elementas – tai įrenginys keičiantis Saulės šviesos energiją į elektros energiją
remdamasis fotovoltiniu reiškiniu puslaidininkyje.
2007 metais Europos Sąjunga, kovodama su klimato šilimo grėsme, įsipareigojo iki
2030 metų pasiekti, kad 25% visos energijos būtų gaunama iš alternatyvių šaltinių,
pagrindinai iš Saulės. Tai turėtų sudaryti apie 1200 GW, o savikaina turėtų neviršyti 0,1
EUR/kWh. Kita priežastis, dėl kurios būtini alternatyvus energijos šaltiniai, yra
prognozuojamas naftos ir dujų resursų išsekimas (žr.7.1 pav.).
p a rd a v im o k a in a
0 .6
į p ra s tin ė s e n e rg ijo s
s a v ik a in a
0 .4
0 .2
0 .0
1990 2000 2010 2020 2030 2040
Saulės spinduliuotės spektras AMO, pasiekiantis žemę, parodytas 7.3 pav. Jis artimas
5760 K juodo kūno spinduliuotei. Bendras krintančios energijos srauto tankis yra apie
1,35 kW/m2. Kertant atmosferą, priklausomai nuo kritimo kampo, dalis spinduliuotės
energijos sugeriama. Siekiant palyginti Saulės elementų efektingumą susitarta
standartizuoti Saulės spektrą AM 1,5 (oro masė 1,5). Tai atitinka 42° spindulių kritimo
kampą į žemės paviršių ir apie 1kW/m2 suintegruotą spinduliuotės energijos srauto tankį.
7.3 pav. Saulės spektro virš atmosferos - AM0 ir standartizuoto, krentančio į žemės paviršių –
AM1.5 palyginimas su juodo kūno 6000K spinduliuotės spektru.
Lietuvoje giedrą dieną vidurdienį krintančios Saulės energijos srauto tankis siekia tik
iki 800 W/m2. Vidutiniškai – apie 120 W/m2. Apsiniaukus Saulės spinduliuotė
išsklaidoma, todėl negali būti nukreipta ir koncentruota į Saulės elementą. Todėl energija
panaudojama dar mažiau efektyviai. Taigi, jei Saulės elemento efektyvumas 10%, tai
1GW Saulės elektrinės elemento plotas sieks apie 100 km2.
-
e
1
-
e
E C
2
4
3
R E E
n Fp
Fn
eU
3
R
p E V
0 d x
7.4 pav. Apšviesto Saulės elemento sandara ir atviros grandinės juostinis modelis
Kodėl? Tarkim, kad visai neatspindima krintanti šviesa. Puslaidininkis sugeria šviesą
tik kurios kvanto energija didesnė už draudžiamosios energijos juostos plotį EG.
Fotogeneruoti krūvininkai per labai trumpą laiką termalizuojasi išsklaidydami perteklinę
kinetinę hν-EG energiją ir elektros kūrimui gali būti panaudojama tik EG energija (žr. 7.4
pav. 1). Todėl pagal Saulės spektrą paskaičiuotas optimalus puslaidininkio draudžiamas
tarpas yra apie 1,4 eV. 7.5 pav. pateiktas maksimalus idealaus Saulės elemento
efektyvumas priklausomai nuo puslaidininkio draudžiamo tarpo.
Tačiau realiai dalis krintančios šviesos atsispindi (žr. 7.4 pav. 2), nevisi sugerti kvantai
generuoja krūvininkų poras ( kvantinis našumas ≤ 1), dalis fotogeneruotų krūvininkų
rekombinuoja tūryje (žr. 7.4 pav. 3), kita dalis - paviršiuje(žr. 7.4 pav. 4), nesukurdami
elektros srovės. Visa tai mažina realų elemento efektyvumą.
35
T=300K
AM 1.5 GaAs
30
Si A-Si:H:F
Efektyvumas (%)
25 Cu2S a-Si:H
20
15
Ge CdS
10
5
0.5 1.0 1.5 2.0 2.5
Draudžiamosios energijos tarpas (eV)
7.5 pav. Maksimalus idealaus Saulės elemento efektyvumas priklausomai nuo puslaidininkio
draudžiamosios energijos juostos pločio [1]
Idealiu atveju, jei visi fotogeneruoti krūvininkai yra pilnai išskiriami sandūros
elektrinio lauko ir nėra rekombinacijos, tai jų sąlygota trumpo jungimo srovė j0=eG, kur
G – krūvininkų fotogeneracijos greitis. Jei elementas neužtrumpintas, tai dėl susidariusios
įtampos tekės priešingos krypties tamsinė pn sandūros srovė. Taigi bendra srovė (žr. 7.6
pav.)
eU U
j = eG − js (exp − 1) = , (7.1)
kT R
eD p pn eDn n p
js = + . (7.2)
Lp Ln
Elemento fotoelektrovara
kT eG
U0 = ln( + 1) . (7.3)
e j0
Kaip matyti iš 7.6 pav., didžiausia galia P=jU pasiekiama ties įtampa Um.
Dydis FF, vadinamas užpildos faktorium,
jmU m
FF = , (7.4)
j0U 0
gali siekti iki 85%.
7.6 pav. Apšviesto Saulės elemento voltamperinė ir galios charakteristikos
j0U 0 FF
η= . (7.5)
P0
Realiai užpildos faktorius, o tuo pačiu ir elemento efektyvumas mažėja dėl baigtinės
elektrodų R ar nuotėkio Rv varžų. Pagal ekvivalentinę schemą (7.7 pav.) tokio elemento
voltamperinė charakteristika
JG R V J rv JD
R (a )
U U ’0 U 0
J 0
J ’0
J0 J0
(b ) (c ) J0
(d )
7.7 pav. Ekvivalentinė Saulės elemento schema (a); voltamperinės charakteristikos: b-idealiu
atveju, c – šunto varžos įtaka, d – elektrodų varžos įtaka.
e(U − JR) U − JR
J = eG − J s (exp − 1) − , (7.6)
mkT RV
kur m – idealumo faktorius.
Kaip matyti RV mažina U0 ir FF, o R mažina j0 ir irgi FF. R varžą sąlygoja n ir p sričių
varžos. Ją galima sumažinti didinant legiruojančių priemaišų koncentracijas, bet tai
mažins krūvininkų gyvavimo trukmes, taigi ir elemento efektyvumą. Kitas būdas -
tankinti apšviečiamo elektrodo šakutes, bet tada mažės apšviečiamo paviršiaus plotas.
Tūrinė rekombinacija mažina šalutinių krūvininkų gyvavimo trukmę, o tuo pačiu jų
difuzijos nuotolį. Tai mažins spektrinį jautrį silpnai sugeriamai šviesai, o jei difuzijos
nuotolis bus mažesnis už nuotolį nuo paviršiaus iki sandūros, tai nukentės spektrinis
jautris ir stipriai sugeriamai šviesai (αd >>1, kur α - sugerties rodiklis). 7.8a pav.
parodyta sandūros gylio įtaka silicio Saulės elemento kvantinio efektyvumo spektrui, kai
šalutinių krūvininkų difuzijos nuotolis 1µm, o 7.8b pav. – paviršinės rekombinacijos
spartos įtaka.
Kuriant saulės elementus stengiamasi sumažinti išvardintų priežasčių įtaką, bet
nepavyksta pasiekti teorinės efektyvumo vertės.
7.8 pav. Kvantinio efektyvumo spektrinis pasiskirstymas, esant skirtingiems pn sandūros gyliams -
(a), paviršinės rekombinacijos spartoms Sn (m/s) - (b) [1].
Plonasluoksniai Saulės elementai. Žiūrint į ateitį, plačiam taikymui kristaliniai
Saulės elementai dėl savo brangumo ir sudėtingos technologijos turėtų būti nukonkuruoti
plonasluoksnių elementų. Jau pradėti naudoti amorfinio hidrogenizuoto silicio (a-Si:H),
mikrokristalinio silicio (μc-Si:H), polikristaliniai kadmio telūrido (CdTe) ir vario indžio
diselenido (CuInSe2), o pastaruoju laiku ir organinių polimerų pagrindu sukurti Saulės
elementai. Tai mažiau negu mikrono storio užgarinti ar cheminiu nusodinimo būdu
pagaminti sluoksniai. Tai leidžia gaminti didelio ploto ir pigius Saulės elementus. Jų
veika skiriasi nuo monokristalinių, ar polikristalinių Si ar GaAs Saulės elementų. Tai
sąlygota to, kad vidinio elektrinio lauko prasiskverbimo nuotolis palyginamas su
sluoksnio storiu, taigi krūvininkų pernašą lemia jų dreifas, o ne difuzija. Kitas skirtumas
– tarpkristalitiniuose paviršiuose susikaupia priemaišos, susidaro potenciniai barjerai. Iš
vienos pusės, tai gerina fotogeneruotų krūvininkų išskyrimą, mažina ominį laidumą, bet
iš kitos pusės – mažina krūvininkų judrį ir gyvavimo trukmę, taigi difuzijos ir dreifo
nuotolius.
∆k ∆x >2π, (7.7)
kai ∆x ≈ λ, tai ∆k > k , t.y. Blocho bangos banginis skaičius neapibrėžtas savo verte.
Jeigu elektronas sklaidomas kiekvieno atomo, tai gauname, kad ∆k >>2π/a, t.y. Blocho
bangos banginis skaičius neapibrėžtas visoje Briljueno zonoje. Taigi tuo atveju k
nebetinkamas aprašyti elektrono būsenai kristale, nebegalioja k atrankos taisyklė,
nebegalima naudoti efektinės masės artinio. Taigi, elektrono elgesiui aprašyti nebetinka
klasikinė kietojo kūno, tiksliau kristalinio kūno fizika.
Netvarkus darinys. Bendru atveju, tai visi kūnai, išskyrus idealų kristalą.
Idealiausias netvarkus darinys - idealios dujos, kur atomo padėtis nepriklauso nuo kitų
atomų padėties. Tačiau netvarkiu dariniu laikomas kūnas, kuriame yra artimoji tvarka, bet
nėra tolimosios transliacijos simetrijos (žr. 7.9 pav.). Tai kristalas su daug priemaišų,
mikro- ir nanokristalinis kūnas, amorfinis kūnas, skystis.
a) b)
a) b)
Ryšys su kristalo fizika. Kietojo kūno fizikoje pagal kvazilaisvo elektrono teoriją
draudžiamų energijų tarpą sąlygojo elektrono bangos atspindys nuo kristalografinių
plokštumų. Netvarkiame darinyje nėra erdvinės simetrijos, bet, pavyzdžiui, stikle –
amorfiniame kūne stebima optinio pralaidumo raudonoji riba atitinkanti draudžiamų
energijų tarpą.
Kietojo kūno fizikoje skylės įvestos remiantis Briljueno zonų periodiškumu.
Netvarkiame darinyje nėra Briljueno zonų, tačiau dauguma netvarkių darinių yra kaip tik
skylinio laidumo medžiagos.
Ir dar. Skysto metalo laidumas nežymiai skiriasi nuo kristalinio, t.y. netvarka gali tik
nežymiai įtakoti elektronų elgesį. Taigi, nors kietojo kūno fizika sukurta remiantis
tvarkingu atomų išsidėstymu erdvėje, ji gali būti dalinai taikoma ir netvarkių darinių
aprašymui.
Būsenų tankis netvarkiuose dariniuose. Žinant konkretų atomų išsidėstymą erdvėje
kompiuterių pagalba galima skaičiuoti būsenų tankio pasiskirstymą pagal energiją N(E).
Kokybiškai tai galima įvertinti remiantis kieto kūno teorija. Netvarkų kūną galima
sudaryti išstumdant atomus atsitiktiniu vidiniu potenciniu lauku V(x). Tada pagal lėtai
kintančio erdvėje potencinio lauko teoriją E(k)+V(x)=const gauname 7.11 pav.
pavaizduotą N(E).
V (x )
x
E (x ) E
EC
E V
x N (E )
Netvarkų kūną galima įsivaizduoti kaip kristalą su kintamu gardelės periodu a(x).
Tada pagal kvazisurišto elektrono teoriją gauname tokią būsenų tankio funkciją N(E) –žr.
7.12 pav.
E C
E
E V
a r N (E )
a
7.12 pav. Kintamo tarpatominio atstumo įtaka būsenų tankio energiniam pasiskirstymui
Pagal lokalinio potencinio lauko trikdžio įtakos elektrono būsenoms kristale teoriją
seka lokalių būsenų susidarymas, kurių energinė padėtis priklauso nuo trikdžio dydžio.
Kadangi netvarkiame darinyje su didesne ar mažesne tikimybe galimi bet kokio dydžio
trikdžiai, tai galimos būsenos su bet kokia energija. Taigi nėra draudžiamo būsenų
energinio tarpo.
Žinant N(E) ir elektronų Fermi-Dirako pasiskirstymo funkciją galima rasti elektronų
tankio energinį pasiskirstymą, tačiau to nepakanka norint įvertinti netvarkaus kūno
elektrinį laidumą, nes galimybė elektronui judėti priklauso ir nuo jo energinės padėties, ir
nuo koordinatės. Taigi tai vėl daugelio kūnų problema.
Šią problemą išsprendė Andersonas (1977m. Nobelio premija).
a E
V
2zI
(a ) N (E )
E
V
U 0
( )b N (E )
7.13 pav. Atominės potencinės duobės kristale (a) ir netvarkiame darinyje (b) pagal Andersono
modelį.
Netvarkos dydį Uo rodo vidutinis kvadratinis duobės energinio gylio nukrypimas nuo
vidutinės vertės. Andersonas sprendė galimybę elektronui difunduoti absoliutinio nulio
temperatūroje. Gavo, kad kai Uo/I<5 difuzija galima, o kai Uo/I>5 – ne. Tai ir yra
Andersono lokalizacijos kriterijus. Tai paaiškinama tuo, kad esant dideliam kaimyninių
potencinių duobių gylių skirtumui elektronų banginės funkcijos nebesąveikauja ir
elektronas lokalizuojasi.
Pagal šį kriterijų būsenų tankio funkcijoje N(E) nustatomas judrio tarpas, t.y.
energijos tarpas, kur būsenos yra lokalizuotos. Esant didesniam būsenų tankiui, o tuo
pačiu didesniam persiklojimo integralui elektronas nebelokalizuotas ir juda kaip kristale
(žr. 7.14 pav.). Minimalus tokio elektrono judris
μ=ea2/h, (7.8)
E E E
E µC
E F
E µV
N (E ) µ(E ) σ (E )
7.14 pav. Būsenų tankio, krūvininkų judrio ir elektrinio laidumo pasiskirstymas pagal energija
Jei elektronas sklaidytųsi kiekvienu atomu, t.y. judėtų kaip Brauno dalelė, tai
analogiškai kaip realių dujų difuzinėje pernašoje
μ=ea2ν/kT, (7.9)
3
P ~ exp − 2αR − . (7.11)
4πkTR N ( EF )
3
C
σ ~ exp(− 1/ 4
). (7.12)
T N ( EF )1 / 4
Tai Motto ¼ (N. Mott) dėsnis (1977 metų Nobelio premijos laureatas).
Kai būsenų tankis ties Fermio lygmeniu mažas, tai elektrinį laidumą apsprendžia
elektronų pernaša ties judrumo kraštu, o medžiagos savybės analogiškos puslaidininkiui:
elektrinis laidumas aktyvuotai priklauso nuo temperatūros, medžiaga jautri legiravimui
priemaišomis, fotojautri.
Bendru atveju stebimi abu atvejai: aukštoje temperatūroje vyrauja laisvų krūvininkų
pernaša, o žemoje – elektronų ties Fermi lygmeniu.
Peržvelgsime tik tas netvarkių darinių savybes, kurios apsprendžia Saulės elementų
veiką.
Optinė sugertis. Kristaliniame kūne tiesioginės optinės sugerties spektras, kai hν >
Eg ,
Optiniai šuoliai netvarkiuose dariniuose tarp nelokalizuotų būsenų tikimesni, nes dėl
impulso neapibrėžtumo nereikia tenkinti jo tvermės dėsnio, o tarp lokalių – daug mažiau
tikimi, nes jos yra skirtingose erdvės vietose. Kai kvanto energija didesnė už judrumo
krašto energiją tai galioja Tauco ( J.Tauc )dėsnis
α ~ (hν - Eg)2/ hν, (7.15)
hν − E g
α ~ exp , (7.16)
E0
kur E0 priklauso tiek nuo temperatūros, tiek nuo atomų išsidėstymo netvarkos. Pastarasis
paaiškinamas optiniais šuoliais iš lokalių būsenų į laisvas, bei Franco-Keldyšo reiškiniu,
sąlygotu atsitiktinių vidinių potencinių laukų. Pavyzdžiui amorfiniame selene Urbacho
dėsnis galioja kintant sugerties koeficientui daugeliui eilių (žr. 7.15 pav.)
6
10
4
10
α (cm )
-1
2
10
0
10 o
o -200 C
400 C 200 25
300 100 -100
-2
10
0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 3.5
E (eV)
V ( rt ) r
β ~ exp(− ) ~ exp(− c ) (7.17)
kT rt
kur V – Kulono potencialas, rt – perteklinės energijos (hν - Eg ) išsklaidymo nuotolis, rc –
Kulono radiusas. Taigi kuo aukštesnė temperatūra ar didesnė kvanto energija, tuo
didesnis kvantinis našumas. Stipriame elektriniame lauke Kulono potencialas
modifikuojamas panašiai kaip Pulio-Frenkelio ( R.Pohl, J.Frenkel ) reiškinio atveju (žr.
7.16 pav.) ir todėl kvantinis našumas taip pat didėja (žr. 7.17 pav.).
V (x )
hν ∆V
rt
7.16 pav. Onzagerio fotogeneracijos schema
7.17 pav. Kvantinio našumo priklausomybė nuo elektrinio lauko stiprio skirtingoms kvanto
energijoms amorfiniame selene: linijos – pagal Onzagerio teoriją, taškai – eksperimentas. Teorijos
ir eksperimento nesutapimas sąlygotas paviršinės rekombinacijos.
Krūvininkų pernaša. Kristale, esant prilipimo lygmenims, krūvininkų dreifinis
judris sumažėja tiek kartų, kiek terminio išlaisvinimo iš prilipimo lygmens trukmė
didesnė negu pagavimo trukmė. Netvarkiuose dariniuose, esant pagal energijas
pasiskirsčiusioms būsenoms, krūvininkų pernaša stochastinė, nes terminio išlaisvinimo
tikimybė priklauso nuo to, į kokios energijos būseną prilipo krūvininkas. Pradžioje
krūvininkai prilimpa seklesnėse būsenose, nes jų tankis didesnis. Su laiku jie prilimpa vis
gilesnėse būsenose, nes jose išlaisvinimo trukmė ilgesnė (žr. 7.18 pav.). Todėl bėgant
laikui dreifinis krūvininkų judris mažėja. Pavyzdžiui, esant eksponentiniam būsenų
pasiskirstymui pagal energiją
E
N ( E ) = N 0 exp(− ). (7.18)
kT0
EF
E∗ N c exp(−
)
τc n kT 1 1
µ = µ0 = = ∫ dE ~ exp(− E ∗ /( + )) ,(7.19)
τ R ∑ m o N ( E ) exp( E − EF ) kTo kT
kT
7.18 pav. Krūvininkų tankio energinė relaksacija (b) esant energiškai pasiskirsčiusiom būsenom (a).
E∗
t = τ R = ν −1 exp( ) (7.20)
kT
T
− (1− )
. (7.21)
µ ~ j (t ) ~ t T0
εε 0
r
dx e 1 4 3
τL = ∫ = , nes F = 2 ir = πr . (7.22)
0
( µ n + µ p ) F e( µ n + µ p ) n 4πεε 0 x n 3
eεε 0 N A N D 1 / 2
C =( ) (U ± U D ) −1 / 2 , (7.23)
N A + ND
7.19 pav. Sandūros talpos (C-2) priklausomybė nuo įtampos skirtingiems erdvinio krūvio
pasiskirstymams
Iš temperatūrinių talpos kinetikos, prijungus įtampos impulsą, priklausomybių taip pat
galima nustatyti gilių būsenų energiją, koncentraciją ir pagavimo skerspjūvį.
εε 0 d2
τσ = >> ttr = . (7.24)
σ µU
Prie Saulės elemento užtveriama kryptimi prijungus įtampą ir trumpu šviesos impulsu
fotogeneravus krūvininkus stebimas jų dreifo srovės impulsas, iš kurio trukmės ttr
nustatomas krūvininkų judris (elektronų, kai apšviečiamas katodas, ar skylių, kai
apšviečiamas anodas), o iš impulso ploto – dreifuojančių krūvininkų kiekis, pagal kurį,
žinant sugertų kvantų kiekį, nustatomas kvantinis našumas (žr. 7.20 pav.).
(a) (b)
7.20 pav. Dreifuojančių krūvininkų pasiskirstymas skirtingais laiko momentais (1,2,3) ir srovės
kinetika lėkio trukmės eksperimente esant Gausinei (a) ir stochastinei pernašai (b).
Esant prilipimui, kurio pagavimo trukmė τ, ar stochastinei pernašai srovė po
fotosužadinimo mažėja. Tuo atveju pagal srovės impulso plotą įvertinta dreifuojančių
krūvininkų kiekio priklausomybė nuo įtampos atitinka Hechto ( J.Hecht )priklausomybę,
pagal kurią nustatomas parametras μτ, nusakantis tiek difuzijos, tiek dreifo nuotolius,
lemiančius Saulės elemento efektyvumą.
N µτE d
= (1 − exp(− ) ). (7.25)
N0 d µτE
t
∆j
t1/2
j(0) tmax
0 ttr t
7.21 pav. CELIV metode prijungiamas įtampos impulsas ir stebima krūvininkų ekstrakcijos srovė
Iš stebimos srovės kinetikos galima suskaičiuoti bandinio storį arba dielektrinę skvarbą
εε 0 j (0) dU
d
= , kur A = ; (7.26)
A dt
Maksvelo relaksacijos trukmę
2 j (0)
τ σ = ⋅ t max ; (7.27)
3 ∆j
tūrio laidumą
3 d ∆j dj
σ bulk = ⋅ ⋅ , arba σ bulk = εε 0 / j0 (7.29)
2 A tmax
dt t =0
∞
2
ed ∫0
p0 = ∆jdt . (7.30)
20
15
j [µ A/cm ]
2
10 50 µs
200 µs
500 µs
5 1000 µs
2000 µs
10 ms
dark
0
0 1 2
t [ms]
7.22 pav. Foto – CELIV srovės kinetika esant skirtingoms užlaikymo trukmėms tarp šviesos ir
įtampos impulsų RRa-PHT (poly-heksiltiofenas) sluoksnyje.
Dvigubos injekcijos srovės kinetikos metodas. Prie Saulės elemento prijungus
įtampą pralaidžia kryptimi stebima dvigubos injekcijos srovė. Kai dielektrinės
relaksacijos trukmė didesnė negu lėkio trukmė (τσ = εε0/σ >> ttr=d/μE), bimolekulinės
Lanževeno rekombinacijos (B=BL) atveju injektuoti krūvininkai visiškai rekombinuoja
tarpelektrodiniame nuotolyje ir stebima srovės kinetika atitinka erdvinio krūvio ribotą
srovę su abiejų ženklų krūvininkų judrių suma. Kai rekombinacija silpnesnė, tai po
lėtesniųjų krūvininkų lėkio trukmės (tsl) injektuotų krūvininkų kiekis, o tuo pačiu ir srovė
didėja, kol dėl rekombinacijos įsisotina.
µ n/µ p=10
js/2
10 B/BL=10-3
t1/2
j(t)
EKRS
B/BL=1
1
j/j
tsc dj/dt
tsl
0.1
1 10 100
t/ttr
7.23 pav. Dvigubos injekcijos srovės kinetika Lanževeno ir silpnesnės rekombinacijos atvejais
d2
µ n + µ p = 0.8 , (7.31)
Utsc
kitas variantas
jSCLC d 3
µn + µp ≅ ; (7.31)
εε 0U 2
lėtesniųjų krūvininkų judrį
d2
µsl = 0.8 ; (7.32)
Utsl
e( µ n + µ p )
ln3 U
B= . (7.33)
2 js t1 / 2 d
Monokristalinio silicio Saulės elementai. Iki pastarojo laiko jie sudarė apie trečdalį
visų gaminamų Saulės elementų. Žinoma daug silicio monokristal7 auginimo metodų
Populiariausias – Čochralskio (Czoczralski) metodas – kai monokristalas lėtai traukiamas
iš išlydyto silicio (7.24 pav.). Traukimo greitis apie 1 mm/min (1,5 kg/h). Dažniausiai
kristalas silpnai legiruojamas boru (1016 cm-3), siekiant didelio elektronų difuzijos
nuotolio p tipo silicyje. Monokristalo skersmuo 15 – 30 cm. Vėliau jis pjaustomas 0,3-0,5
mm storio ir keturkampėmis 100 cm2 plokštelėmis. Nušlifuotas paviršius difuzijos ar
joninės implantacijos būdu legiruojamas fosforu ( 1019 cm3 ), siekiant sudaryti laidų n
tipo emiterį ir sumažinti paviršiaus varžą. Optimalus sandūros gylis apie 0,3-1 μm.
Tipiškas tokio elemento efektyvumas siekia 15%.Tai gana brangus ir daug energijos
reikalaujantis gamybos būdas. Jo trūkumai – lieka gana daug deguonies priemaišų;
pakankamai lėtas silicio kristalo augimo greitis – 1,5 kg/val. Privalumai: išvengiama
kenksmingų aplinkai ir žmogaus sveikatai cheminių procesų; galima auginti pakankamai
didelio skersmens (iki 15cm) silicio monokristalų luitus; atidirbta gamybos technologija .
Kitas būdas – zoninis lydymas, kai aukštesnės už lydymosi temperatūros ruožas
lėtai (3 mm/min) slenka per polikristalinį silicį (7.24 pav.). Šis procesas kartojamas keletą
kartų siekiant zoninio valymo būdu išgryninti silicį. Tai leido pasiekti elemento
efektyvumą iki 20%, bet tai dar brangesnis gamybos būdas. Šios gamybos technologijos
trūkumai: gana didelis užauginto kristalo defektų kiekis; reikalingas daugkartinis zoninis
valymas tam, kad būtų pasiektas tinkamas silicio grynumo lygis; brangi technologija;
sudėtinga gauti didelio diametro strypą. Tačiau išvengiama kenksmingų aplinkai ir
žmogaus sveikatai cheminių procesų. Gaunamas labai švarus Si monokristalas su
minimalia O2 koncentracija.
7.24 pav. Monokristalinio silicio gamybos būdai
7.25 pav. Monokristalinio silicio Saulės elementas su atspindį mažinančiais tekstūruotais paviršiais
ir „paslėptais“ elektrodais.
Siekiant sumažinti šviesos atspindį paviršius tekstūruojamas ir padengiamas atspindį
mažinančiu tantalo oksidu, titano oksidu, arba silicio nitridu. Siekiant sumažinti
paviršinių, uždengiančiu šviesą, elektrodų plotą jie „laidojami“ (žr. 7.25 pav.).
Prieš užnešant elektrodą laidojimo duobutės papildomai legiruojamos n++. Tai sumažina
nuoseklią varžą bei paviršinę rekombinaciją. Siekiant sumažinti paviršinę rekombinaciją
ties apatiniu elektrodu, prieš jį užnešant, paviršius papildomai legiruojamas, sudarant p+-
p sandūrą. Visų optimizavimų rezultate pavyko priartėti prie teorinio efektyvumo ribos -
26%.
Gaminant polikristalinį silicį iš garų fazės kristalitų dydis tarp mikrono ir milimetro.
Tiesioginio garinimo būdu gauti amorfiniai sluoksniai netinkami Saulės elementų
gamybai, nes neįsotinti Si ryšiai sąlygoja didelį būsenų tankį draudžiamame tarpe (~ 1018
cm-3), taigi mažą krūvininkų gyvavimo trukmę bei nejautrumą legiruojančiom
priemaišom.
Yra pasiūlyta eilė perspektyvių netiesioginių silicio sluoksnių Saulės elementams
gamybos būdų. Pavyzdžiui - Siemens būdas. Iš pradinės medžiagos MG-Si (metalurginio
lygio) cheminės reakcijos
Si+ 3HCl => HSiCl3 + H2
SiHCl3 + H2 → Si + 3 HCl.
2 2
Legiruoti sluoksniai gaunami įvedus fosforo arba boro hibridinius junginius. Jei
norime gauti p–tipo laidumo sluoksnį dažniausia įvedame boraną, jei n–tipo – fosfiną (žr.
7.28 pav.).
Sluoksnių, pagamintų rusenančiame išlydyje, kokybę įtakoja auginimo metu
susiformavusi sandara. Ją lemia įvairūs procesai bei daugelis technologinių parametrų:
dujų sąstatas ir slėgis kameroje, dujų srauto greitis, skaldančio lauko galia, padėklo
medžiaga ir temperatūra. Pavyzdžiui, aliuminis labai skatina kristalizaciją. Pagrindinis
trūkumas - plazma tiesiogiai liečiasi su augančiu sluoksniu, todėl gaunami defektingi
sluoksniai. Tačiau šis metodas yra plačiausiai naudojamas a-Si:H sluoksnių gamyboje.
Gaminant šaltu gamybos būdu, silanas maišomas su atominiu vandeniliu gaunamu
skaldant H2 šalia darbinės kameros esančiame tūryje aukšto dažnio lauku arba termiškai.
Vyksta šalta reakcija, kurios metu gaunami molekulinis vandenilis ir SiH3 frakcija, kuri ir
sėda ant įkaitinto padėklo.
Kitas cheminio garų nusodinimo būdas - karštos vielos metodas (HWCVD – Hot
Wire CVD). Darbinėje kameroje SiH4 dujos katalitiškai skaldomos kelių centimetrų
atstumu nuo padėklo ištemptomis volframo arba tantalo vielomis, kurios tekant elektros
srovei įkaitinamos iki (1400-1600)°C. Metodo privalumas yra tai, kad nenaudojami
elektriniai laukai, taigi, nėra didelės energijos silicio jonų, kurie daužytų augantį sluoksnį.
7.28 pav. a-Si:H laidumo priklausomybė nuo borano ar fosfino koncentracijos silane
Dulkinimo metodas - laisvi Si atomai gaunami išdaužant juos didelių energijų jonais
arba elektronais iš kristalinio (c-Si) silicio plokštelės. Plazminio dulkinimo atveju
darbinėje kameroje uždegama argono (Ar) plazma, kuri atlieka didelių energijų dalelių,
būtinų dulkinimui, šaltinio vaidmenį. Išmušti Si atomai nusėda ant padėklo – auga a-Si
sluoksnis, kuris, norint sumažinti neįsotintų ryšių koncentraciją, po to turi būti
atkaitinamas vandenilio atmosferoje.
Magnetroninis dulkinimas skiriasi tuo, kad Si atomai išmušami įgreitinant elektronus
elektromagnetiniame lauke. Pagrindinis šio metodo privalumas – galimybė gauti didelius
augimo greičius.
a-Si:H Saulės elementai gaminami ant stiklo ar plastmasės padengtos skaidriu ir
elektrai laidžiu ITO ar alavo oksido sluoksniu, tada formuojamas p-i-n darinys ir apatinis
elektrodas. Gaminant didelio ploto elementus a-Si:H p-i-n sandara formuojama ant
nerūdijančio plieno skardos.
a-Si:H Saulės elementų privalumai lyginant su kristaliniais silicio elementais:
- optinė sugertis a-Si:H didesnė negu kristalinio, nes nereikia tenkinti impulso
tvermės dėsnio;
- krūvininkų judris a-Si:H mažas (elektronų apie 1cm2/Vs, skylių - ~10-2cm2/Vs),
todėl nėra paviršinės rekombinacijos nuostolių dėl atgalinės difuzijos;
- a-Si:H elementai yra labai ploni ( <1 µm) , tai sąlygoja, kad kontaktinis laukas
įsiskverbia per visą sluoksnio storį ir krūvininkų pernašą sąlygoja jų dreifas;
- a-Si:H saulės elementus nesudėtinga gaminti didelio ploto ant lankstaus ar
skaidraus padėklo;
- paprastesnė ir daug pigesnė technologija.
Amorfinio silicio Saulės elementų trūkumai:
- a-Si:H Saulės elementų efektyvumas ( ~10-15%) mažesnis negu c-Si:
- su laiku jie degraduoja, nes ilgai šviečiant susidaro nauji neįsotinti ryšiai. Tai
Stablerio-Vronskio reiškinys. Tačiau atkaitinus sluoksnį apie 2000C
temperatūroje jo savybės pilnai atsistato.
CIS,CIGS Saulės elementai. CIS - tai kristalinių CuInSe2 ar CuInS2 ir CdS plonų
sluoksnių heterosandūra. Pažymėtina, kad šių medžiagų gardelės konstantos ir
giminingumai artimi, taigi turime idealią heterosandūrą. CIGS Saulės elemento pagrindas
yra vario-indžio-galio-disulfoselenidas (Cu(In,Ga)(SSe)2). Šio mišinio storis yra ~ 1µm,
sugerties koeficientas α >105 cm-1 didelėje spektro dalyje. Draustinės juostos tarpas gali
svyruoti nuo 1.02 eV CIS (grynas CuInSe2) iki 1.68 eV (grynas CuGaSe2). Didelis
Saulės elemento naudingumo koeficientas 19.5 %, modulio - 13 %. Privalumai: galima
gaminti ant lanksčių padėklų; ilgalaikis stabilumas; santykinai pigi gamyba. Trūkumai:
riboti indžio ištekliai; CdS toksiškumas. Gamybos technologija – Se garinimas vakuume
ant užgarintų In, Ga ir Cu metalų sluoksnių, esant padėklo temperatūrai ~5000C.
7.33 pav. Tūrinės heterosandūros Saulės elemento sandara ir energijos juostų diagrama
Saulės elementų kūrimo perspektyvos. 7.34 pav. palyginti dabar gaminamų Saulės
elementų efektyvumai ir jų medžiagų kainos.
Literatūra:
1. NelsonJenny. The physics of solar cells. London Imperial College Press, 2006.
2. Martin Pope, Charles E.Swenberg. Electronic processes in organic crystals and
polymers. New York Oxford Univ. Press,1999.
3. Organic photovoltaics concepts and relization. C.J. Brabec (eds.) ... [et al.]. Berlin
Springer 2003.
4. Renewable energy. Godfrey Boyle.Oxford univ. Press, 2004.