CD SEM操作篇

1
 Manual Controller

晶片的載入及退出
Start: Wafer Load
Unload: Wafer的交換
Abort: 全部Wafer的退出

Slot的選擇

2
 Image Operation

OM-SEM切換鍵
Image Operation

手動量測游標
十字游標
區域游標
RISM (視野移動)
倍率切換
清除游標顯示
滑鼠亦可
自動量測執行鍵

手動存取影像

Auto Focus顯示鍵 AMP顯示鍵

3
 加速電壓、Probe電流的設定方法
Image Operation
目前的觀察條件

HV Setup

Vacc(加速電壓)設定

Ip(Probe電流)設定
Booster選擇

Ip Read: 讀取現在的Probe電流(照射電流)
Ip Range：基於Ip Mode確認可使用的範圍

4
 加速電壓、Probe電流的設定方法(S-9380)
Image Operation
目前的觀察條件

HV Setup

Vacc(加速電壓)設定

Ip(Probe電流)設定
Optics選擇

Ip Read: 讀取現在的Probe電流(照射電流)
Ip Range：基於Ip Mode確認可使用的範圍
Optics: High Reso., High DOF, B. Low等3種選擇

5
 積算Frame數的設定方法
Image Operation Frame：1

View Setup

Frame：4

Frame：32

在View Setup可改變積算Frame的設定
View: 連續性的電子束照射在晶片上
Integ: 只有預設好的Frame數的電子束照射在晶片上
(View為影像觀察、Integ為圖像取得、量測時使用)

6
 Beam Controller (軸調整)
Image Operation Beam Controller

Beam的調整項目
：Align.2、Sti.Al.X、Sti.Al.Y、Stigma

平常使用為None

Align. 2：Focus變化時不使影像晃動的線圈
Sti.Al.X/Y：Stigma X/Y變化時不使影像晃動的線圈
Stigma：散光像差調整用線圈

7
 SEM Condition 的載入及儲存方法
Image Operation Beam Controller

SEM Condition Memory Manager

Save, Load

在SEM Condition Memory Manager

可將加速電壓、Probe電流、軸調整的狀態儲存。
SEM Condition由No.1∼99皆可登錄。
(又、在S-9380 Ver20 OM-SEM的校正亦被儲存在SEM Condition。)

8
 Stage Controller

Stage Controller
輸入距離・座標 Chip間移動 Chip內移動

IDP的製作及Wafer Alignment是必須的
9
 Field Map

打開IDP檔案、執行Alignment Test Run 後、

再Field Map 完成後、可與IDP及IDW連結。
Chip內的移動、可藉由Field Map的OM影像做click動作即可移動位置。

10
CD SEM RECIPE作成篇

11
 File Manager 的構成

File Manager

File Manager 的構成

Class - IDW - IDP - Recipe

Class : 檔案儲存夾
IDW : WAFER的情報
IDP : 對準點、量測點的情報
Recipe : 量測條件等

Class檔案中內自動量測必要的
IDW 、IDP、Recipe的檔案被儲存著

自動量測由Recipe Controller中選取Recipe而後執行

12
 IDW File
IDW Editor
File Manager

Wafer Size、Chip Size、Chip Array等情報的登錄

13
 IDP File

File Manager IDP Editor

Wafer Alignment情報

量測點情報

14
 IDP File Alignment情報
IDP Editor 1. Wafer Alignment情報
(1) Origin (Chip原點)的登錄
(2) Alignment點的登錄
・OM Alignment 倍率104倍 (1st)
・SEM Alignment 倍率3k∼10k倍 (2nd)
(讓Wafer及機台的座標系一致。)

SEM Alignment OM Alignment

Chip左下 AP Alignment點的
為原點 座標在Chip內

15
 IDP File 量測點情報

IDP Editor Sequence Editor

量測點的Chip內座標

Addressing情報

Measurement情報

16
量測點座標、Addressing情報的登錄
座標的登錄
移動至量測點、在量測點上按Reg。

Addressing圖像登錄
Pattern Recognition = ON
Action - Reg. Image執行圖像登錄。

Addressing圖像登錄的倍率、約5k∼10k左右。
但是、重複性的圖案及、任何圖案上量測皆可的狀況
下、倍率上升至20k左右亦可。

又、 Addressing圖像登錄時量測點及model圖案的
距離(Offset)須在10μm以內。
圖像登錄後、 Acceptance須做確認及調整。
Acceptance的設定是藉由Measurement Test Run
的執行由Score Monitor上的Score來確認及設定。

又、使用Struct時、Min. Number要設小一些。

17
Addressing的圖像辨識及設定

Acceptance
在圖像辨識上若Score不比Acceptance高的話圖案
檢出仍是無法執行。但若Acceptance設太小容易出
錯; 反之、若設太大則不易檢出。
為此、Acceptance的設定請藉由Measurement Test
Run的執行由Score Monitor上的Score來確認。

使用Struct時、若檢出的圖案比Min. Number還少的
話則量測點的檢出無法執行。為此、Min. Number須
設小一些。

Offset
指Area cursor包圍住的model圖案的中心與量測點
的距離。此值在圖像登錄時亦被記錄住。只有在
Ver20才可人為修改此項數值。

18
Addressing的圖像登錄

量測點

Offset

model

量測點及model中心的距離(Offset)記憶
Model 圖案檢出→決定量測點位置

19
Addressing的圖像辨識 (圖案檢出)

藉由圖案辨識
檢出model圖案
再檢出量測點

Addressing的圖像辨識 Kind 的特徵

① Unique：檢出與model圖案最最相似的圖案。
② Struct：由相同圖案的排列方式及登錄位置檢出。
③ Pierce：貫穿畫面的圖案(使用在Line&Space) 。
④ iFEM：基於設計值檢出圖案。
( ⑤ Cyclic：由重複性的圖案中檢出位在畫面中央的圖案)

20
Addressing的圖像辨識 (Unique、Struct)

量測點 Unique Struct

Unique：登錄畫面內最獨一無二的圖案、
檢出與model圖案最最相似的圖案
Struct：畫面內存在著相同的圖案、
由圖案的排列方式來檢出量測點

21
Addressing的圖像辨識 (Pierce)

量測點 Pierce

Pierce：Line & Space 等貫穿畫面的圖案使用

只做橫向的圖案檢出、
縱向的位置檢出不執行。
(因為縱向不管取哪一段都一樣)

22
 Pre Dose 的使用方法

Pre Dose の使用方法

Pre Dose用於hole pattern等圖案底部暗且看不到的情況下、低
倍率1k∼5k倍下由電子束照射1∼10sec、使圖案表面呈帶電的觀
察方法。
加速電壓設低的話, wafer表面易呈帶電、就容易觀察到hole的底
部。

注意事項
對於氧化物等容易帶電的試片來說、要注意因為Pre Dose而使
wafer表面過度帶電進而使得圖案爆開而引起靜電破壞的事。

23
 Z Sensor

Z Sensor
Stage移動時wafer的高度有變化時、圖案的高度變
化由雷射檢出、 對於高度變化部分的聚焦位置做補正
的機能。

通常、Z Sensor ON的情況下、即便wafer的高度有

變為了不使focus有過大的偏移、Addressing的Auto
Focus OFF也仍舊可以執行Addressing。

但是、若因為帶電造成focus偏移的話、Addressing
的Auto Focus 請設定ON。

24
Auto Focus的設定 (Measurement)

目的的高度Focus不合的情況下
輸入Offset。

Relative Position
Auto Focus執行的位置
(輸入由量測點算起的距離)

25
Measurement的圖像登錄

自動量測用的box cursor

圖像辨識時檢出游標放置位置

26
Measurement的圖像辨識 (圖案檢出)

基於圖像辨識
檢出游標放置位置

Measurement的圖像辨識 Kind 的特徵

① Line：只做橫向位置檢出。
② Hole：縱向・橫向的位置同時檢出。
③ Unique：檢出有特徵的地方。
④ Struct：由圖案的排列方式檢出位置。
⑤ iFEM：基於設計值檢出圖案。

備註：Unique, Struct, iFEM等的量測倍率及圖案辨識的倍

率可做不一樣的設定。

27
 Recipe File
Recipe Editor Measurement Environment
File Manager

(1) File Manager 的 Action – Create 設定Recipe的名稱

(2) 選擇Class file內的IDW及IDP
(3) 輸入SEM Condition No.
(4) Manual Assist 及 Image Save 等條件的登錄

28
AMP設定篇

29
AMP（Auto Measurement Parameter)及自動量測
依據AMP的設定、執行自動量測
AMP

SEM 影像 自動量測

自動量測
SEM影像→Line Profile作成
→Edge檢出→量測值算出

30
 自動量測用box cursor及AMP
AMP
Design Value

512
pixel Sum Lines

Search Area

512 pixel
Sum Lines ： 信號的計算範圍 (單位：pixel)
Search Area ： peak檢出範圍
Design Value ： box cursor的距離

Sum Lines 多的話Line Profile的雜訊會變少。

31
 Threshold法自動量測
Threshold法 50% (以Line Width的自動量測為例)
1. 由SEM影像做出Line Profile
2. Line Profile的平坦化 (Smoothing)
3. Edge位置的檢出
4. 量測值的計算

100% 100%
50% 50%
0% 0%

1 2 3 4

Line Profile：二次電子信號的波形

32
Smoothing 及 Differential 的設定

Smoothing的方法 微分的方法

平均 差

Smoothing = 5 Linear, Differential = 5

取5pixel的信號的平均 取前後2pixel的信號的
後變成Profile 差變成Profile

Profile s(n) Profile d(n)

33
 Linear（Line Profile的作成）

由SEM影像做出
Line Profile p(n)
p(n)

Line Profile的
S(n) 平坦化 s(n)

為檢出peak而作出
d(n) 微分後的Line Profile d(n)

34
 Linear（peak檢出及Slope Line）

p(n)
（Slope Line = peak的接線）
Slope Line

S(n)

dmax = 100%

dpeak
Threshold (50%)
d(n)
0%
檢出比Threshold
大的peak
1 2 Edge Number
Direction of edge detection
35
 Linear（Edge檢出）
Base Line Start Point = 1、Base Line Area = 1
(Base Line Area = 1 時、Base Line = Base Line Start Point)

Slope Line

Start Point
Base Line
S(n)
Edge位置

Start Point
1 -1

2 -2
4 -4
-8
d(n) 8

Edge位置 = Slope Line及Base Line的交點

36
 Linear（Base Line Start Point）

Base Line Start Point = 1, -1 Base Line Start Point = 2, -2

Start Point Start Point

S(n) S(n)

Start Point Start Point

1 -1 1 -1

2 -2 2 -2
4 -4 4 -4
8 -8 8 -8
d(n) d(n)

37
 Linear（Base Line及Edge的檢出）

Slope Line
Base Line的作成方法
Start Point

Start Point
S(n)
Base Line Base Line 平均
Edge位置 位置
s(n)
Start Point
1
Area = 8 pixel
Start Point = 1、
Base Line Area = 8 為例
d(n)
取8 pixel的信號的平均位置
為Base Line。

Edge位置 = Slope Line及Base Line的交點

38
 Linear（Base Line及Edge的檢出）

Edge位置 Slope Line

Base Line的作成方法
Start Point
Base Line 平均
Base Line
Start Point 位置
S(n)

s(n)
Start Point
-1
Area = 8 pixel
Start Point = -1、
Base Line Area = 8為例
d(n)
取8 pixel的信號的平均位置
為Base Line。

Edge位置 = Slope Line及Base Line的交點

39