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Six Sigma Project (GB)-專案章程_智勝科技_傅丞逸20230812
Six Sigma Project (GB)-專案章程_智勝科技_傅丞逸20230812
8/12/2023
01 ABOUT US 關於我們
02 INTRODUCTION 簡介
02 INTRODUCTION 簡介
頌勝化學
• PU Skin
• PURHM
Flexible foam
• Viscoelastic foam
智勝科技
02 INTRODUCTION 簡介
BEOL
FEOL
Oxide
Ox Film Dep.
氧化物鍍膜
Wafer(含前層)
Litho
CMP Integrate 黃光
化學機械研磨 loop
Dry Etching
Metal Dep. 乾蝕刻
金屬鍍膜
Wet Clean
濕蝕刻
CMP processing
◆ CMP Tool
Platen2 細磨
Platen1 粗磨
未磨前 粗磨 細磨 清潔 量測
Measurement
Wafer incoming Global Polishing Over polishing Cleaning
Step Height
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Input CMP Process Output
未磨前 粗磨 細磨 清潔 量測
Measurement
Wafer incoming Global Polishing Over polishing Cleaning
Step Height
Slurry
• Slurry(化學劑種類/流量)
Conditioner
• 鑽石大小/高度/銳利度
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CMP Process
Active
Trench
Oxide
Oxide
Substrate Substrate
∆THK_Trench Ox
PE (planarization efficiency) =( 1 - ) x100%
平坦化效率 ∆THK_Active Ox
VOC: 客戶期望研磨墊對於晶圓的平坦化效果要好。
CTQ: 可以將客戶的需求近一步量化,此量化指標為PE(平坦化效率),即其PE數
值望大,會有更好的平坦化效率。
02 INTRODUCTION 簡介
• 目前產品設計上沒有一個關鍵材料指標作為設計依循,其指標期望可用以推估
2.專案概要Project Abstract 對半導體CMP製程中的平坦化影響,且若此指標的量測方法與流程得以建立,
可大幅減少產品開發成本,也縮短與客戶一來一往的驗證時間與開發成本。
• 建立一個關鍵指標與其指標的測量與評價方式,其指標對平坦化效率(PE)可以有
3.專案目標Objective 明顯的提升效果。
6.顧客得利Benefit to
• 內部客戶: 材料開發中心與產品設計中心對於新世代產品的開發有所依循。
Internal/External • 外部客戶: 獲取性價比更高的產品,客戶的產品生產效率與良率更高。
Customers
總經理室Mike, 材料中心 Jay, 技術開發處Yu, Zoe, 產品開發一部Kelly,
7.小組成員 Team members 晶圓研磨實驗室
• 材料中心提供材料的物理特性分析數據與相關的支援。
9.必要支持Support • 技術開發處,檢測與量測技術的支援與開發。
Required • 產品開發一部的產品設計生產支援
• 研磨實驗室的實際驗證,客戶的相關參數支援。
IV Technologies Co., Ltd 18
IV Technologies Co., Ltd